WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Options
Langue d'interrogation
Stemming/Racinisation
Trier par:
Nombre de réponses par page
Certains contenus de cette application ne sont pas disponibles pour le moment.
Si cette situation persiste, veuillez nous contacter àObservations et contact
1. (WO2005048674) MATERIAU DE FENETRE ELECTROMAGNETIQUEMENT BLINDANT ET PHOTOTRANSMETTEUR, ET PROCEDE DE PRODUCTION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2005/048674 N° de la demande internationale : PCT/JP2004/016745
Date de publication : 26.05.2005 Date de dépôt international : 11.11.2004
CIB :
B32B 15/08 (2006.01) ,B32B 27/30 (2006.01) ,G09F 9/00 (2006.01) ,H05K 9/00 (2006.01)
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
32
PRODUITS STRATIFIÉS
B
PRODUITS STRATIFIÉS, c. à d. FAITS DE PLUSIEURS COUCHES DE FORME PLANE OU NON PLANE, p.ex. CELLULAIRE OU EN NID D'ABEILLES
15
Produits stratifiés composés essentiellement de métal
04
comprenant un métal comme seul composant ou comme composant principal d'une couche adjacente à une autre couche d'une substance spécifique
08
de résine synthétique
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
32
PRODUITS STRATIFIÉS
B
PRODUITS STRATIFIÉS, c. à d. FAITS DE PLUSIEURS COUCHES DE FORME PLANE OU NON PLANE, p.ex. CELLULAIRE OU EN NID D'ABEILLES
27
Produits stratifiés composés essentiellement de résine synthétique
30
comprenant une résine vinylique; comprenant une résine acrylique
G PHYSIQUE
09
ENSEIGNEMENT; CRYPTOGRAPHIE; PRÉSENTATION; PUBLICITÉ; SCEAUX
F
PRÉSENTATION; PUBLICITÉ; ENSEIGNES; ÉTIQUETTES OU PLAQUES D'IDENTIFICATION; SCEAUX
9
Dispositifs d'affichage d'information variable, dans lesquels l'information est formée sur un support, par sélection ou combinaison d'éléments individuels
H ÉLECTRICITÉ
05
TECHNIQUES ÉLECTRIQUES NON PRÉVUES AILLEURS
K
CIRCUITS IMPRIMÉS; ENVELOPPES OU DÉTAILS DE RÉALISATION D'APPAREILS ÉLECTRIQUES; FABRICATION D'ENSEMBLES DE COMPOSANTS ÉLECTRIQUES
9
Blindage d'appareils ou de composants contre les champs électriques ou magnétiques
Déposants : FUNAKI, Tatsuya[JP/JP]; JP (UsOnly)
KOTSUBO, Hidefumi[JP/JP]; JP (UsOnly)
SASAKI, Kiyomi[JP/JP]; JP (UsOnly)
BRIDGESTONE CORPORATION[JP/JP]; 10-1, Kyobashi 1-chome, Chuo-ku, Tokyo 1048340, JP (AllExceptUS)
Inventeurs : FUNAKI, Tatsuya; JP
KOTSUBO, Hidefumi; JP
SASAKI, Kiyomi; JP
Mandataire : SHIGENO, Tsuyoshi; Nissin bldg., 9F 5-10, Shinjuku 2-chome Shinjuku-ku, Tokyo 1600022, JP
Données relatives à la priorité :
2003-38534514.11.2003JP
2003-38534614.11.2003JP
2003-38534714.11.2003JP
Titre (EN) ELECTROMAGNETIC-SHIELDING LIGHT-TRANSMITTING WINDOW MATERIAL AND METHOD FOR PRODUCING SAME
(FR) MATERIAU DE FENETRE ELECTROMAGNETIQUEMENT BLINDANT ET PHOTOTRANSMETTEUR, ET PROCEDE DE PRODUCTION
(JA) 電磁波シールド性光透過窓材及びその製造方法
Abrégé :
(EN) A resin pattern (3) is formed by printing an ultraviolet-curing resin paste containing an electroless plating catalyst on the surface of a transparent base (1) and curing the thus-printed pattern (2) by irradiating it with ultraviolet light. At this time, an uncured layer (3A) is left in the surface of the resin pattern (3). Then, a plating layer (4) is formed on the resin pattern (3) by electroless plating, thereby forming a conductive pattern (5). During the electroless plating, the uncured layer (3A) is eroded in the plating bath and catalyst particles are exposed. The plating layer (4) is formed using the thus-exposed catalyst particles as the nuclei.
(FR) Un patron en résine (3) est formé par impression d'une pâte de résine durcissant aux UV contenant un catalyseur de plaquage non électrique sur la surface d'une base transparente (1) et par durcissage du patron ainsi imprimé (2) en le soumettant à la lumière UV. A ce moment, une couche non durcir (3A) est laissée dans la surface du patron de résine (3). Ensuite, une couche de plaquage (4) est formée sur le patron de résine (3) par plaquage non électrique, formant ainsi un patron conducteur (5). Pendant le plaquage non électrique, la couche non durcie (3A) est érodée dans le bain de plaquage et les particules du catalyseur deviennent apparentes. La couche de plaquage (4) est formée en utilisant comme noyaux les particules de catalyseur ainsi exposées.
(JA) not available
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)