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PATENTSCOPE

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1. (WO2005048328) APPAREIL D'EXPOSITION ET PROCEDE DE FABRICATION DE DISPOSITIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2005/048328 N° de la demande internationale : PCT/JP2004/017122
Date de publication : 26.05.2005 Date de dépôt international : 11.11.2004
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 : 10.06.2005
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : HONDA, Tokuyuki[JP/JP]; JP (UsOnly)
CANON KABUSHIKI KAISHA[JP/JP]; 30-2, Shimomaruko 3-chome Ohta-ku, Tokyo 1468501, JP (AllExceptUS)
Inventeurs : HONDA, Tokuyuki; JP
Mandataire : FUJIMOTO, Ryosuke; FUJIMOTO PATENT OFFICE Yaesu Nagoya Building 6th Floor, 2-10, Yaesu 2-chome, Chuo-ku, Tokyo 1040028, JP
Données relatives à la priorité :
2003-38373213.11.2003JP
Titre (EN) EXPOSURE APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
(FR) APPAREIL D'EXPOSITION ET PROCEDE DE FABRICATION DE DISPOSITIF
Abrégé : front page image
(EN) An exposure apparatus includes a projection optical system 3 for projecting a pattern on a mask 3 onto a substrate 5, a stage 13 for retaining and moving the substrate, and liquid film forming means (10, 11) for forming a liquid film 4 between a final surface of the projection optical system and the substrate, wherein L / V > Ą is met where Ą is a life of a gas bubble generated in the liquid film, V is a moving speed of the substrate, and L is a distance from an interface of the liquid film to an exposure area along a moving direction of the substrate.
(FR) L'invention concerne un appareil d'exposition comprenant un système optique de projection (3) permettant de projeter un motif sur un masque (3) déposé sur un substrat (5), un étage (13) permettant de retenir et de déplacer le substrat, ainsi qu'un moyen de formation de film liquide (10, 11) permettant de former un film liquide (4) entre une surface finale du système optique de projection et le substrat, la relation L / V > $g(t) étant satisfaite lorsque $g(t) représente une vie d'une bulle de gaz générée dans le film liquide, V représente une vitesse de déplacement du substrat et L représente une distance entre une interface du film liquide et une zone d'exposition le long d'un sens de déplacement du substrat.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IS, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)