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1. (WO2005046206) DISPOSITIF A MICROMIROIR ELECTROMECANIQUE ET PROCEDES DE FABRICATION DE CE DISPOSITIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/046206    N° de la demande internationale :    PCT/US2004/035974
Date de publication : 19.05.2005 Date de dépôt international : 29.10.2004
CIB :
G02B 26/08 (2006.01), G02B 26/00 (2006.01)
Déposants : ISHII, Fusao [US/US]; (US)
Inventeurs : ISHII, Fusao; (US)
Mandataire : LIN, Bo-In; 13445 Mandoli Drive, Los Altos Hills, CA 94022 (US)
Données relatives à la priorité :
10/698,620 01.11.2003 US
Titre (EN) ELECTROMECHANICAL MICROMIRROR DEVICES AND METHODS OF MANUFACTURING THE SAME
(FR) DISPOSITIF A MICROMIROIR ELECTROMECANIQUE ET PROCEDES DE FABRICATION DE CE DISPOSITIF
Abrégé : front page image
(EN)An electromechanical micromirror device comprises a device substrate with a 1st surface and 2nd surface, control circuitry disposed on said 1st surface, and a micromirror disposed on said 2nd surface. Arrays of such micromirror devices are also described and may be used as spatial light modulators (SLMs). The arrays may be 1 dimension (linear) or 2 dimensional. Methods of fabricating micromirror devices and arrays of such devices are also disclosed. Such methods generally involve providing a device substrate with a 1st surface and a 2nd surface, fabricating control circuitry on the 1st surface, and fabricating micromirror(s) on the 2nd surface.
(FR)L'invention concerne un dispositif à micromiroir électromécanique comprenant un substrat de dispositif possédant une première surface et une seconde surface, des circuits de commande disposés sur la première surface, ainsi qu'un micromiroir disposé sur la seconde surface. L'invention concerne également des réseaux de dispositifs à micromiroir de ce type pouvant être utilisés comme modulateurs spatiaux de lumière (SLM). Ces réseaux peuvent être unidimensionnels (linéaires) ou bidimensionnels. L'invention concerne également des procédés de fabrication de dispositifs à micromiroir et de réseaux de dispositifs de ce type. Ces procédés consistent généralement à utiliser un substrat de dispositif possédant une première surface et une seconde surface, à fabriquer des circuits de commande sur la première surface, et à fabriquer un ou plusieurs micromiroirs sur la seconde surface.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)