WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
PATENTSCOPE sera indisponible quelques heures pour des raisons de maintenance le samedi 18.08.2018 à 09:00 CEST
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2005044568) TETE D'IMPRESSION POUR LA CREATION DE MOTIFS NANOMETRIQUES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2005/044568 N° de la demande internationale : PCT/KR2004/000687
Date de publication : 19.05.2005 Date de dépôt international : 26.03.2004
CIB :
B41J 2/14 (2006.01)
Déposants : KIM, Dong-Soo[KR/KR]; KR (UsOnly)
LEE, Won-Hee[KR/KR]; KR (UsOnly)
LEE, Taek-Min[KR/KR]; KR (UsOnly)
CHOI, Doo-Sun[KR/KR]; KR (UsOnly)
CHOI, Byung-Oh[KR/KR]; KR (UsOnly)
KOREA INSTITUTE OF MACHINERY & MATERIALS[KR/KR]; 171, Jang-dong Yusung-gu Taejon 305-343, KR (AllExceptUS)
Inventeurs : KIM, Dong-Soo; KR
LEE, Won-Hee; KR
LEE, Taek-Min; KR
CHOI, Doo-Sun; KR
CHOI, Byung-Oh; KR
Mandataire : YANG, Kwang-Nam ; 9F, BYC Bldg. 648-1, Yeoksam-dong Gangnam-gu Seoul 135-080, KR
Données relatives à la priorité :
10-2003-007833806.11.2003KR
Titre (EN) PRINTING HEAD FOR NANO PATTERNING
(FR) TETE D'IMPRESSION POUR LA CREATION DE MOTIFS NANOMETRIQUES
Abrégé : front page image
(EN) The present invention provides a printing head for nano patterning including a manifold for accommodating a liquid printing material, a cartridge with an injection chamber communicating with the manifold, and a sample holder for patterning installed outside the injection chamber of the cartridge. The printing head comprises a shadow mask which is installed outside the injection chamber to be finely moved in an X-Y direction and has a single injection hole with a relatively very small size; an actuator for finely moving the shadow mask; an injection-inducing unit including a high voltage generator, a power supply electrode that is installed within the injection chamber and receives power from the high voltage generator to generate positive charges, and an opposite electrode for generating negative charges on the sample holder in a state where the shadow mask is interposed between the power supply electrode and the opposite electrode, thereby generating induced discharge from the injection chamber toward the sample holder; and a control unit for controlling the driving of the actuator so that the injection hole of the shadow mask can be moved to patterning positions corresponding to patterning data input in advance. According to the present invention, patterning accuracy can be improved, ultra-fine patterning and patterning of arbitrary shapes can be achieved, and a configuration for injecting the printing material can be simplified.
(FR) Cette invention se rapporte à une tête d'impression pour la création de motifs nanométriques, qui comprend un collecteur destiné à recevoir une substance d'impression liquide, une cartouche pourvue d'une chambre d'injection communicant avec le collecteur, et un réservoir d'échantillons pour la création des motifs placés à l'extérieur de la chambre d'injection de la cartouche. Cette tête d'impression comporte un masque perforé qui est placé à l'extérieur de la chambre d'injection pour être déplacé selon des mouvements fins dans une direction X-Y et qui présente un seul trou d'injection ayant un diamètre relativement très petit; un actuateur destiné à déplacer selon des mouvements fins le masque d'injection; et une unité d'induction d'injection contenant un générateur de haute tension, une électrode d'alimentation placée dans la chambre d'injection et recevant le courant provenant du générateur de haute tension pour générer des charges positives, et une électrode opposée destinée à générer des charges négatives sur le réservoir d'échantillons, dans une position où le masque perforé vient s'interposer entre l'électrode d'alimentation et l'électrode opposée, générant ainsi une décharge induite depuis la chambre d'injection en direction du réservoir d'échantillons; et une unité de commande destinée à commander l'entraînement de l'actuateur, pour que le trou d'injection du masque perforé puisse être déplacé dans des positions de création de motifs correspondant aux données de création de motifs introduites à l'avance. Grâce à cette invention, la précision de création des motifs peut être améliorée, une création de motifs ultrafins et une création de motifs de formes arbitraires peuvent être réalisées, et la configuration pour injecter la substance d'impression peut être simplifiée.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)