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1. (WO2005043244) PROCEDES ET SYSTEMES POUR LE CONTROLE DE CARACTERISTIQUES DE FAISCEAU DE RAYONNEMENT POUR LE TRAITEMENT MICROLITHOGRAPHIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/043244    N° de la demande internationale :    PCT/US2004/033904
Date de publication : 12.05.2005 Date de dépôt international : 13.10.2004
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    12.08.2005    
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : MICRON TECHNOLOGY, INC. [US/US]; 8000 South Federal Way, P.O. Box 6, Boise, ID 83716-8632 (US) (Tous Sauf US).
MACKEY, Jeffrey, L. [US/US]; (US) (US Seulement).
STANTON, William, A. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : MACKEY, Jeffrey, L.; (US).
STANTON, William, A.; (US)
Mandataire : WECHKIN, John, M.; Perkins Coie LLP, P.O. Box 1247, Seattle, WA 98111-1247 (US).
HIRSCH, Peter; Klunker.Schmitt-Nilson.Hirsch, Winzererstrasse 106, 80797 Munich (DE)
Données relatives à la priorité :
10/684,794 14.10.2003 US
Titre (EN) METHODS AND SYSTEMS FOR CONTROLLING RADIATION BEAM CHARACTERISTICS FOR MICROLITHOGRAPHIC PROCESSING
(FR) PROCEDES ET SYSTEMES POUR LE CONTROLE DE CARACTERISTIQUES DE FAISCEAU DE RAYONNEMENT POUR LE TRAITEMENT MICROLITHOGRAPHIQUE
Abrégé : front page image
(EN)Methods and apparatuses for controlling characteristics of radiation directed to a microlithographic workpiece are disclosed. An apparatus in accordance with one embodiment of the invention includes a source of radiation positioned to direct a radiation beam having an amplitude distribution, a phase distribution, and a polarization distribution, toward a workpiece. An adaptive structure can be positioned in a path of the radiation beam and can have a plurality of independently controllable and selectively radiation transmissible elements, each configured to change at least one of the amplitude distribution, the phase distribution and the polarization distribution of the radiation beam. A controller can be operatively coupled to the adaptive structure to direct the elements of the adaptive structure to change from one state to any of a plurality of available other states. Accordingly, the adaptive structure can provide radiation beams having a variety of continuously variable distributions for a variety of radiation beam characteristics.
(FR)La présente invention a trait à des procédés et des appareils pour le contrôle de caractéristiques de rayonnement dirigé vers une pièce de travail de microlithographie. Selon un mode de réalisation de l'invention, un appareil comporte une source de rayonnement positionnée pour diriger un faisceau de rayonnement présentant une distribution d'amplitude, une distribution de phase, et une distribution de polarisation, vers une pièce de travail. Une structure adaptative peut être positionnée dans la trajectoire du faisceau de rayonnement et peut présenter une pluralité d'éléments pouvant être contrôlés de manière indépendante et transmissibles par rayonnement sélectif, chacun ayant une configuration permettant la modification d'une parmi la distribution d'amplitude, la distribution de phase et la distribution de polarisation du faisceau de rayonnement. Une contrôleur peut être couplé en fonctionnement à la structure adaptative pour diriger les éléments de la structure adaptative en vue de la modification depuis un état vers un quelconque d'une pluralité d'autres états différents disponibles. Par conséquent la structure adaptative peut fournir des faisceaux de rayonnement présentant une gamme de distributions constamment variables pour une pluralité de caractéristiques de faisceau de rayonnement.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)