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1. (WO2005042683) MATERIAU DE NETTOYAGE DESTINE A UNE MACHINE DE MOULAGE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/042683    N° de la demande internationale :    PCT/JP2003/013993
Date de publication : 12.05.2005 Date de dépôt international : 31.10.2003
CIB :
B29C 45/17 (2006.01), C11D 3/12 (2006.01), C11D 3/37 (2006.01)
Déposants : TAKAGISEIKO CORPORATION [JP/JP]; 322-3, Futazuka, Takaoka-shi, Toyama 933-8628 (JP) (Tous Sauf US).
TAKAHASHI, Nobutada [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : TAKAHASHI, Nobutada; (JP)
Mandataire : KOKUBUN, Takayoshi; 5th Floor, Ikebukuro TG Homest Building, 17-8, Higashi-Ikebukuro 1-chome, Toshima-ku, Tokyo 170-0013 (JP)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) CLEANING MATERIAL FOR MOLDING MACHINE
(FR) MATERIAU DE NETTOYAGE DESTINE A UNE MACHINE DE MOULAGE
(JA) 成形機用洗浄剤
Abrégé : front page image
(EN)A cleaning material for a molding machine, which comprises a thermoplastic resin and, as additives, zinc oxide, a surfactant and silicon dioxide.
(FR)L'invention concerne un matériau de nettoyage destiné à une machine de moulage et comprenant une résine thermoplastique et, comme additifs, de l'oxyde de zinc, un tensioactif et du dioxyde de silicium.
(JA) 成形機用洗浄剤は、熱可塑性樹脂に、添加剤として酸化亜鉛、界面活性剤及び二酸化珪素を含有している。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)