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1. (WO2005042427) PROCEDE DE FORMATION DE MICROSTRUCTURES SUR UN SUBSTRAT ET ENSEMBLE MICROSTRUCTURE UTILISANT UN TEL PROCEDE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/042427    N° de la demande internationale :    PCT/US2004/033170
Date de publication : 12.05.2005 Date de dépôt international : 08.10.2004
CIB :
B32B 17/06 (2006.01), C03C 17/00 (2006.01), H01J 9/24 (2006.01)
Déposants : 3M INNOVATIVE PROPERTIES COMPANY [US/US]; 3M Center, Post Office Box 33427, Saint Paul, Minnesota 55133-3427 (US) (Tous Sauf US)
Inventeurs : YOKOYAMA, Chikafumi,; (US).
SUGIMOTO, Takaki,; (US)
Mandataire : FISCHER, Carolyn A.,; Office of Intellectual Property Counsel, Post Office Box 33427, Saint Paul, Minnesota 55133-3427 (US)
Données relatives à la priorité :
10/698,200 31.10.2003 US
Titre (EN) METHOD OF FORMING MICROSTRUCTURES ON A SUBSTRATE AND A MICROSTRUCTURED ASSEMBLY USED FOR SAME
(FR) PROCEDE DE FORMATION DE MICROSTRUCTURES SUR UN SUBSTRAT ET ENSEMBLE MICROSTRUCTURE UTILISANT UN TEL PROCEDE
Abrégé : front page image
(EN)A method of forming microstructures on a substrate is disclosed. A microstructured assembly that may be used in the method for forming microstructures on a substrate is also disclosed. The methods and assemblies of the present disclosure can reduce the amount of air entrapped in barrier ribs formed on substrates used in Plasma Display devices.
(FR)L'invention concerne un procédé de formation de microstructures sur un substrat. L'ensemble microstructuré qui peut être utilisé dans le procédé de formation de microstructures sur un substrat est également décrit. Les procédés et les ensembles de cette invention permettent de réduire la quantité d'air piégé dans les nervures de barrières formées sur les substrats utilisés dans des dispositifs d'affichage à plasma.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)