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1. (WO2005042264) MASQUE A RAYONNEMENT ULTRAVIOLET GENERE PAR LASER
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2005/042264 N° de la demande internationale : PCT/US2004/034332
Date de publication : 12.05.2005 Date de dépôt international : 19.10.2004
CIB :
B41M 5/42 (2006.01) ,B41M 5/46 (2006.01) ,G03F 3/10 (2006.01)
Déposants : SWIHART, Donald, L.[US/US]; US (UsOnly)
KIDNIE, Kevin, M.[US/US]; US (UsOnly)
BUCHHOLTZ, Richard, C.[US/US]; US (UsOnly)
KODAK POLYCHROME GRAPHICS LLC[US/US]; 401 Merritt #7 Norwalk, CT 06851, US (AllExceptUS)
Inventeurs : SWIHART, Donald, L.; US
KIDNIE, Kevin, M.; US
BUCHHOLTZ, Richard, C.; US
Mandataire : WU, Tong; 2200 Wells Fargo Center 90 South Seventh Street Minneapolis, MN 55402-3901 , US
Données relatives à la priorité :
10/689,46820.10.2003US
Titre (EN) LASER-GENERATED ULTRAVIOLET RADIATION MASK
(FR) MASQUE A RAYONNEMENT ULTRAVIOLET GENERE PAR LASER
Abrégé : front page image
(EN) A UV-mask, a system and method for making the mask and a method of using the mask for producing an image a print medium are disclosed. The system includes a donor element having a substrate coated with a layer of IR-sensitive material and a layers of UV-absorbing material, and a receptor element. The IR-sensitive material is capable of detaching a significant portion of the itself and the UV-absorbing material from the donor element and transfer the detached materials to the receptor element when irradiated by an IR radiation. The method for making a UV-mask includes irradiating such a donor element with an IR radiation. The method of using includes overlaying a digital UV mask on a UV-sensitive medium, exposing the medium to a UV radiation through the UV mask, and developing the UV-sensitive medium.
(FR) L'invention concerne un masque UV, un système et un procédé de production de ce masque et un procédé d'utilisation dudit masque permettant de produire une image sur un support d'impression. Le système de l'invention comprend un élément donneur possédant un substrat revêtu par une couche d'un matériau sensible aux rayons IR et une couche d'un matériau absorbant les rayons UV, et un élément récepteur. Une grande partie du matériau sensible aux rayons IR et du matériau absorbant les rayons UV peut se détacher de l'élément donneur et être transféré sur l'élément récepteur lors d'une irradiation par un rayonnement IR. Le procédé de production d'un masque UV consiste à irradier ledit élément donneur par un rayonnement IR. Le procédé d'utilisation consiste à superposer un masque UV numérique sur un support sensible aux UV ; à exposer le support à un rayonnement UV passant par le masque UV ; et à développer le support sensible aux UV.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)