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1. (WO2005041807) NOUVEAUX PHOTOPOLYMERES ET UTILISATION DANS DES MATERIAUX DE RESTAURATION DENTAIRE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/041807    N° de la demande internationale :    PCT/US2004/034968
Date de publication : 12.05.2005 Date de dépôt international : 22.10.2004
CIB :
A61C 13/08 (2006.01), A61C 13/087 (2006.01)
Déposants : THE REGENTS OF THE UNIVERSITY OF COLORADO [US/US]; 4001 Discovery Drive, Suite 390, Campus Box 588 SYS, Boulder, CO 80309-0588 (US) (Tous Sauf US).
BOWMAN, Christopher, N. [US/US]; (US) (US Seulement).
LU, Hui [CN/US]; (US) (US Seulement).
STANSBURY, Jeffrey, W. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : BOWMAN, Christopher, N.; (US).
LU, Hui; (US).
STANSBURY, Jeffrey, W.; (US)
Mandataire : BRUESS, Steven, C.; Merchant & Gould P.C., P.O. Box 2903, Minneapolis, MN 55402-0903 (US)
Données relatives à la priorité :
60/513,900 22.10.2003 US
Titre (EN) NOVEL PHOTOPOLYMERS AND USE IN DENTAL RESTORATIVE MATERIALS
(FR) NOUVEAUX PHOTOPOLYMERES ET UTILISATION DANS DES MATERIAUX DE RESTAURATION DENTAIRE
Abrégé : front page image
(EN)Photopolymerizable polymer composites based on dimethacrylate systems have been increasingly utilized as dental restorative materials. One of the biggest drawbacks of current dental resin systems is the volume shrinkage and shrinkage induced stresses that arise during the polymerization. Other major problems include incomplete double bond conversion and insufficient wear resistance. This invention involves the development of an entirely novel approach to the photopolymerization process that utilizes thiol-ene systems as low shrinkage and ultra-low shrinkage stress dental restorative materials. Compared with the traditional dimethacrylate dental resins, these novel photopolymerizations have demonstrated a dramatically decreased volume shrinkage, extremely rapid polymerization, abilities to photopolymerize ultrathick materials and achieve much higher conversion, lack of oxygen inhibition and ultra-low shrinkage stress due to low volume shrinkage and drastically delayed gel point conversion. These polymers have thus shown outstanding suitability as dental restorative materials.
(FR)Des composites polymères photopolymérisables basés sur des systèmes de diméthacrylate sont de plus en plus utilisés en tant que matériaux de restauration dentaire. Un des inconvénients les plus importants des systèmes de résine dentaire actuels est le retrait volumique et les contraintes dues au retrait qui apparaissent au cours de la polymérisation. Parmi d'autres problèmes majeurs, on trouve une conversion des doubles liaisons incomplète et une résistance à l'usure insuffisante. La présente invention concerne le développement d'une technique entièrement nouvelle du procédé de polymérisation qui fait appel à des systèmes thiol-ènes en tant que matériaux de restauration dentaire à faible retrait et à contrainte due au retrait ultra-faible. Comparé aux résines dentaires à base de diméthacrylate classiques, lesdites nouvelles photopolymérisations présentent un retrait volumique considérablement diminué, une polymérisation extrêmement rapide, des capacités à photopolymériser des matériaux ultra-épais et à obtenir une conversion beaucoup plus élevée, un manque d'inhibition de l'oxygène et une contrainte due au retrait ultra-faible. Lesdits polymères présentent par conséquent une aptitude remarquable pour être utilisés en tant que matériaux de restauration dentaires.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)