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1. (WO2005040924) PROCEDE D'ENROBAGE AU MOYEN DE PHOTORESINE A DES FINS DE MICROLITHOGRAPHIE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication : WO/2005/040924 N° de la demande internationale : PCT/US2004/023587
Date de publication : 06.05.2005 Date de dépôt international : 23.07.2004
CIB :
B05D 3/02 (2006.01) ,B05D 3/12 (2006.01) ,B41N 3/00 (2006.01) ,G03C 5/00 (2006.01) ,G03F 7/09 (2006.01) ,G03F 7/16 (2006.01)
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
05
PULVÉRISATION OU ATOMISATION EN GÉNÉRAL; APPLICATION DE LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
D
PROCÉDÉS POUR APPLIQUER DES LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
3
Traitement préalable des surfaces sur lesquelles des liquides ou d'autres matériaux fluides doivent être appliqués; Traitement ultérieur des revêtements appliqués, p.ex. traitement intermédiaire d'un revêtement déjà appliqué, pour préparer les applications ultérieures de liquides ou d'autres matériaux fluides
02
par cuisson
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
05
PULVÉRISATION OU ATOMISATION EN GÉNÉRAL; APPLICATION DE LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
D
PROCÉDÉS POUR APPLIQUER DES LIQUIDES OU D'AUTRES MATÉRIAUX FLUIDES AUX SURFACES, EN GÉNÉRAL
3
Traitement préalable des surfaces sur lesquelles des liquides ou d'autres matériaux fluides doivent être appliqués; Traitement ultérieur des revêtements appliqués, p.ex. traitement intermédiaire d'un revêtement déjà appliqué, pour préparer les applications ultérieures de liquides ou d'autres matériaux fluides
12
par des moyens mécaniques
B TECHNIQUES INDUSTRIELLES; TRANSPORTS
41
IMPRIMERIE; LIGNARDS; MACHINES À ÉCRIRE; TIMBRES
N
CLICHÉS OU PLAQUES D'IMPRESSION; MATÉRIAUX POUR SURFACES UTILISÉES DANS L'IMPRESSION POUR IMPRIMER, ENCRER, MOUILLER OU SIMILAIRE; PRÉPARATION DE TELLES SURFACES POUR LEUR EMPLOI OU LEUR CONSERVATION
3
Préparation en vue de l'emploi ou de la conservation des surfaces d'impression
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
C
MATÉRIAUX PHOTOSENSIBLES POUR LA PHOTOGRAPHIE; PROCÉDÉS PHOTOGRAPHIQUES, p.ex. PROCÉDÉS CINÉMATOGRAPHIQUES, AUX RAYONS X, EN COULEURS OU STÉRÉOPHOTOGRAPHIQUES; PROCÉDÉS AUXILIAIRES EN PHOTOGRAPHIE
5
Procédés photographiques ou agents à cet effet; Régénération de tels agents de traitement
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004
Matériaux photosensibles
09
caractérisés par des détails de structure, p.ex. supports, couches auxiliaires
G PHYSIQUE
03
PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
F
PRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7
Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
16
Procédés de couchage; Appareillages à cet effet
Déposants : GE, Howard[US/US]; US (UsOnly)
GEOSLING, Christine[US/US]; US (UsOnly)
NORTHROP GRUMMAN CORPORATION[US/US]; Building 35 21240 Burbank Boulevard Woodland Hills, CA 91367, US (AllExceptUS)
Inventeurs : GE, Howard; US
GEOSLING, Christine; US
Mandataire : GESS, Albin, H.; Snell & Wilmer LLP 600 Anton Boulevard Suite 1400 Costa Mesa, CA 92626, US
Données relatives à la priorité :
10/680,96007.10.2003US
Titre (EN) PHOTORESIST COATING PROCESS FOR MICROLITHOGRAPHY
(FR) PROCEDE D'ENROBAGE AU MOYEN DE PHOTORESINE A DES FINS DE MICROLITHOGRAPHIE
Abrégé :
(EN) A photoresist spray coating process for deep trenched substrates. According to one implementation of the invention, the substrate surface is primed with a primer having a water contact angle between forty and fifty degrees. A spray nozzle is moved across the diameter of the substrate at varying speeds to achieve a coat of substantially the same thickness throughout. The photoresist is spray coated on the substrate surface at an angle to the substrate surface to obtain coverage of deep etched features. The photoresist is dissolved in a solvent according to specific dilution ratios to achieve a viscosity range that permits spraying the photoresist evenly in deep etch features while avoiding pull-back.
(FR) L'invention concerne un procédé d'enrobage par pulvérisation au moyen de photorésine destiné à des substrats à tranchées profondes. Selon un mode de réalisation de l'invention, la surface du substrat est amorcée avec une amorce dont l'angle de contact avec l'eau se situe entre 40 et 50°. Une buse de pulvérisation est déplacée sur tout le diamètre du substrat à des vitesses variables afin de former une couche présentant sensiblement la même épaisseur sur toute la surface. La photorésine est pulvérisée sur la surface du substrat selon un certain angle afin d'obtenir une couverture des éléments de gravure profonde. La photorésine est dissoute dans un solvant conformément à des ratios de dilution spécifiques afin d'atteindre une gamme de viscosité qui permet de pulvériser la photorésine de façon uniforme sur les éléments de gravure profonde tout en évitant le rétrécissement.
front page image
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG)
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)