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1. (WO2005040911) REFRACTEUR THERMO-RESISTANT ET DISPOSITIF OPTIQUE COMPRENANT LEDIT REFRACTEUR
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/040911    N° de la demande internationale :    PCT/JP2004/015409
Date de publication : 06.05.2005 Date de dépôt international : 19.10.2004
CIB :
G02B 5/08 (2006.01)
Déposants : Kabushiki Kaisha Koransha [JP/JP]; 3-8, Kobira 1-chome, Arita-machi, Nishimatsuura-gun, Saga (JP) (Tous Sauf US).
NAKASHIMA, Masazumi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KURITA, Sumihiko [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : NAKASHIMA, Masazumi; (JP).
KURITA, Sumihiko; (JP)
Mandataire : EHARA, Nozomu; EHARA & ASSOCIATES, Daini Taki Building, 4, Kanda-Tacho 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010046 (JP)
Données relatives à la priorité :
2003-398138 22.10.2003 JP
Titre (EN) HEAT-RESISTANCE REFRACTOR AND OPTICAL DEVICE MOUNTED WITH SAME
(FR) REFRACTEUR THERMO-RESISTANT ET DISPOSITIF OPTIQUE COMPRENANT LEDIT REFRACTEUR
(JA) 耐熱性リフレクター及びそれを搭載した光学装置
Abrégé : front page image
(EN)For adaptation to smaller sized and higher luminance of optical devices such as projectors and light sources, a dielectric alternate multilayer reflective film excellent in heat resistance is formed on a concave surface of a heat-resistance inorganic base of a reflector to ensue the heat resistance of a practical reflector. Irrespective of the reflective film depositing means, if the scratch resistance of the reflective film is 0.02 kgf or more, the reflector can have an unconventional excellent heat resistance against 500°C or more, enabling adaptation to smaller size and higher luminance of optical devices.
(FR)Selon l'invention, un film réfléchissant multicouche alterné diélectrique présentant une excellente résistance thermique est formé sur une surface concave de la base inorganique thermo-résistante d'un réflecteur, de sorte à assurer la résistance thermique dudit réflecteur. Ce film réfléchissant est destiné à être adapté à des dispositifs optiques de petite taille à luminance élevée, tels que des projecteurs et des sources de lumière. Quel que soit le moyen de dépôt de film réfléchissant, si la résistance à la rayure dudit film est de 0,02 kgf ou supérieure, le réflecteur peut présenter d'excellentes propriétés de résistance thermique à une température de 500 °C ou supérieure, ce qui permet d'adapter ledit film à des dispositifs optiques de petite taille à luminance élevée.
(JA) プロジェクター等の光学装置及び光源の小型高輝度化に伴い、実用的なリフレクターの耐熱性を確保するために、リフレクターの耐熱性無機基材の凹内面に耐熱性に優れる誘電体交互積層反射膜を被覆する。反射膜被覆手段に拘わらず、耐熱性無機基材の凹内面に被覆された上記反射膜の引っ掻き耐力が0.02kgf以上であるとき、従来にない500°C以上の高耐熱性に優れるリフレクターが得られ、光学装置の小型高輝度化への対応が可能となる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)