WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2005040864) DISPOSITIF OPTIQUE A STRUCTURE ANTIREFLET ET PROCEDE DE PRODUCTION CORRESPONDANT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/040864    N° de la demande internationale :    PCT/JP2004/016147
Date de publication : 06.05.2005 Date de dépôt international : 29.10.2004
CIB :
C03B 11/08 (2006.01), C03C 15/00 (2006.01), C03C 17/06 (2006.01), G02B 5/00 (2006.01)
Déposants : MATSUSHITA ELECTRIC INDUSTRIAL CO., LTD. [JP/JP]; 1006, Oaza Kadoma, Kadoma-shi Osaka 5718501 (JP) (Tous Sauf US).
UMETANI, Makoto; (US Seulement).
SHIMIZU, Yoshiyuki; (US Seulement).
YAMAMOTO, Yoshiharu; (US Seulement).
YAMAGATA, Michihiro; (US Seulement).
TANAKA, Yasuhiro; (US Seulement).
YAMAGUCHI, Hiroshi; (US Seulement)
Inventeurs : UMETANI, Makoto; .
SHIMIZU, Yoshiyuki; .
YAMAMOTO, Yoshiharu; .
YAMAGATA, Michihiro; .
TANAKA, Yasuhiro; .
YAMAGUCHI, Hiroshi;
Mandataire : OGASAWARA, Shiro; Daisan-Longev' Bldg. 3-11, Enokicho, Suita-shi Osaka 5640053 (JP)
Données relatives à la priorité :
2003-369522 29.10.2003 JP
2003-370946 30.10.2003 JP
Titre (EN) OPTICAL DEVICE HAVING ANTIREFLECTIVE STRUCTURE AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME
(FR) DISPOSITIF OPTIQUE A STRUCTURE ANTIREFLET ET PROCEDE DE PRODUCTION CORRESPONDANT
(JA) 反射防止構造体を有する光学素子、および反射防止構造体を有する光学素子の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)A process for producing an optical device having antireflective structures in which an optical device having high-precision antireflective structures free of pattern deviance over a wide area can be repeatedly formed. 0.15 μm-diameter columnar Cr masks are provided with a pitch of 0.15 μm on a surface of quartz glass substrate. The quartz glass substrate provided with the columnar Cr masks is placed in an RF dry etching apparatus, and the surface of quartz glass substrate is etched with CHF3+O2 gas to thereby form 0.15 μm-pitch 0.15 μm-height cone shaped antireflective structures on the surface of quartz glass substrate. The surface provided with cone shaped antireflective structures (press surface) of the quartz glass substrate is provided with a 0.05 μm thick Ir-Rh alloy film for surface protection, thereby obtaining a mold for antireflective structure formation. Optical material (crown borosilicate glass) coated with a mold release agent containing carbon (C) microparticles for mold release is press molded with the use of the mold for antireflective structure formation, and without cooling, the mold for antireflective structure formation is detached from the press molded optical material. The press molded optical material is cooled, and the mold release agent is removed therefrom.
(FR)L'invention concerne un procédé de production d'un dispositif optique à structures antireflets dans lequel un dispositif optique à structures antireflets haute précision dépourvues de l'écart de motif sur une grande surface peut être formé de façon répétée. Des masques de Cr colonnaires à diamètre de 0,15 $g(m)m sont produits avec un pas de 0,15 $g(m)m sur une surface de substrat en verre de quartz. Le substrat en verre de quartz doté de masques de Cr colonnaires est placé dans un appareil de gravure sèche RF, et la surface du substrat en verre de quartz est gravée avec du gaz CHF3+O2 afin de former des structures antireflets en forme de cône à hauteur de 0,15 $g(m)m à pas de 0,15 $g(m)m sur la surface du substrat en verre de quartz. La surface munie de structures antireflets en forme de cône (surface de pression) du substrat en verre de quartz est dotée d'un film d'alliage Ir-Rh à épaisseur de 0,05 $g(m)m comme protection de surface, produisant ainsi un moule de formation de structure antireflet. Le matériau optique (verre de borosilicate en crown) revêtu d'un agent de démoulage contenant des microparticules de carbone (C) pour le démoulage est pressé-moulé au moyen du moule destiné à la formation de structure antireflet, et sans refroidissement, le moule à formation de structure antireflet est détaché du matériau optique pressé-moulé. Le matériau optique pressé-moulé est refroidi, et l'agent de démoulage éliminé dudit matériau.
(JA) 大面積に亘って、パターンずれの発生しない、高精度な反射防止構造体を有する光学素子を繰り返し成形することのできる反射防止構造体を有する光学素子の製造方法を提供する。石英ガラス基板の表面に、直径0.15μmの円柱状のCrマスクをピッチ0.15μmで形成する。円柱状のCrマスクが形成された石英ガラス基板を、RFドライエッチング装置の中に入れ、CHF+O2 ガスを用いて、石英ガラス基板の表面をエッチングし、石英ガラス基板の表面に、ピッチ0.15μm、高さ0.15μmの円錐形状の反射防止構造体を形成する。円錐形状の反射防止構造体が形成された石英ガラス基板の表面(プレス面)に、表面保護のためのIr−Rh合金膜を0.05μmの厚みで形成し、反射防止構造体成形用型を作製する。反射防止構造体成形用型を用いて、離型のための炭素(C)の微粒子を含む離型剤が塗布された光学材料(クラウン系の硼珪酸ガラス)をプレス成形し、冷却せずに反射防止構造体成形用型をプレス成形した光学材料から離型させる。プレス成形した光学材料を冷却した後、離型剤を除去する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)