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1. (WO2005040488) PROCEDE POUR PRODUIRE UNE STRUCTURE POREUSE, DU CUIR ARTIFICIEL ET DU CUIR SYNTHETIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/040488    N° de la demande internationale :    PCT/JP2004/015974
Date de publication : 06.05.2005 Date de dépôt international : 21.10.2004
CIB :
C08G 18/10 (2006.01), C08G 18/48 (2006.01), D06N 3/14 (2006.01)
Déposants : NICCA CHEMICAL CO., LTD. [JP/JP]; 23-1, Bunkyo 4-chome Fukui-shi Fukui 910-8670 (JP) (Tous Sauf US).
ONITSUKA, Emika [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
NISHINO, Masakazu [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SAITO, Hajime [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : ONITSUKA, Emika; (JP).
NISHINO, Masakazu; (JP).
SAITO, Hajime; (JP)
Mandataire : UCHIYAMA, Mitsuru; TSI Sudacho Building 8F 4-1, Kandasudacho 1-chome Chiyoda-ku Fukui 101-0041 (JP)
Données relatives à la priorité :
2003-363695 23.10.2003 JP
Titre (EN) PROCESS FOR PRODUCING POROUS STRUCTURE, ARTIFICIAL LEATHER, AND SYNTHETIC LEATHER
(FR) PROCEDE POUR PRODUIRE UNE STRUCTURE POREUSE, DU CUIR ARTIFICIEL ET DU CUIR SYNTHETIQUE
(JA) 多孔性構造体の製造方法、人工皮革及び合成皮革
Abrégé : front page image
(EN)A process for producing a porous structure which comprises: applying to a substrate a liquid mixture comprising (A) an aqueous dispersion of a water-compatible polyurethane, (B) an aqueous dispersion of a urethane prepolymer which has, in the molecular skeleton, 10 to 40% by mass structural unit comprising a polyoxyethylene group having an average molecular weight of 100 to 2,000 and which has been terminated by a blocked isocyanate, and (C) a tertiary amine; and subsequently subjecting the mixture to dry-heat drying or to wet-heat heating and then drying. Also provided are an artificial leather and synthetic leather obtained by the process. By the process, a porous structure having performances comparable to those of porous structures produced by a wet process from a solvent-based polyurethane can be obtained using an aqueous dispersion of a water-compatible polyurethane without using an organic solvent.
(FR)L'invention concerne un procédé pour produire une structure poreuse selon les opérations suivantes : appliquer sur un substrat un mélange liquide contenant (A) une dispersion aqueuse d'un polyuréthanne compatible avec l'eau, (B) une dispersion aqueuse d'un prépolymère uréthanne dont le squelette moléculaire comporte 10 à 40 % en masse d'une unité structurelle comprenant un groupe polyoxyéthylène de poids moléculaire moyen oscillant entre 100 et 2 000 et terminé par un isocyanate bloqué, et (C) un amine tertiaire ; puis soumettre ce mélange à un séchage par chaleur sèche ou à un chauffage par chaleur humide, avant de le sécher. L'invention porte également sur un cuir artificiel et un cuir synthétique obtenus selon ce procédé. Selon ce procédé, une structure poreuse ayant des propriétés comparables à celles de structures poreuses produites selon un processus humide à partir d'un polyuréthanne à base de solvant peut être obtenue au moyen d'une dispersion aqueuse d'un polyuréthanne compatible avec l'eau sans solvant organique.
(JA)(A)水性ポリウレタン水分散物、(B)平均分子量100~2,000のポリオキシエチレン基からなる構成単位を分子骨格中に10~40質量%有するウレタンプレポリマー末端イソシアネートブロック水分散物、及び、(C)第三級アミンを含有する混合液を、基材に付与したのち、乾熱乾燥又は湿熱加熱後に乾燥する多孔性構造体の製造方法、並びに、該方法により得られる人工皮革及び合成皮革。本発明によれば、有機溶剤を使用することなく、水性ポリウレタン水分散物を用いて、湿式溶剤系ポリウレタンを用いて製造した多孔性構造体に遜色のない性能を有する多孔性構造体を得ることができる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)