WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2005040460) APPAREIL ET PROCEDE DE PRODUCTION D'UN NANOTUBE METALLIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/040460    N° de la demande internationale :    PCT/JP2004/015066
Date de publication : 06.05.2005 Date de dépôt international : 13.10.2004
CIB :
C25D 1/02 (2006.01)
Déposants : KYOTO UNIVERSITY [JP/JP]; 36-1, Yoshida-honmachi Sakyo-ku, Kyoto-shi Kyoto 6068501 (JP) (Tous Sauf US).
FUKUNAKA, Yasuhiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KONISHI, Yoko [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MOTOYAMA, Munekazu [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
ISHII, Ryuji [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : FUKUNAKA, Yasuhiro; (JP).
KONISHI, Yoko; (JP).
MOTOYAMA, Munekazu; (JP).
ISHII, Ryuji; (JP)
Mandataire : ASAHINA, Sohta; NS Building 2-22, Tanimachi 2-chome Chuo-ku, Osaka-shi 5400012 (JP)
Données relatives à la priorité :
2003-365120 24.10.2003 JP
Titre (EN) APPARATUS FOR PRODUCING METAL NANOTUBE AND METHOD FOR PRODUCING METAL NANOTUBE
(FR) APPAREIL ET PROCEDE DE PRODUCTION D'UN NANOTUBE METALLIQUE
(JA) 金属ナノチューブ製造装置および金属ナノチューブの製造方法
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a low-cost, high-quality metal nanotube composed of Ni, Fe, Co or the like. A metal thin film having a thickness of 10-80 nm is formed as a cathode on one surface of a film having through holes, and an electrolyte solution is filled between an anode and the cathode to which a voltage is applied. Metal ions in the electrolyte solution are electrochemically deposited on the walls of the through holes, thereby forming metal nanotubes. A thermoplastic resin porous film such as a polycarbonate film, an alumina porous film or an aluminum anodic oxide film may be used as the film, and the diameters of the through holes are preferably 15-500 nm. The metal thin film can be formed by sputtering, and is preferably composed of a platinum-palladium alloy.
(FR)L'invention concerne un nanotube métallique à faible coût et de haute qualité à base de Ni, Fe, Co ou similaire. Selon l'invention, un film mince métallique présentant une épaisseur comprise entre 10 et 80 nm est formé en tant que cathode sur une surface d'un film comportant des trous traversants et une solution d'électrolyte est introduite entre une anode et la cathode à laquelle une tension est appliquée. Des ions métalliques présents dans la solution d'électrolyte sont déposés par un procédé électrochimique sur les parois des trous traversants, des nanotubes métalliques étant ainsi formés. Le film utilisé peut être un film poreux de résine thermoplastique, tel qu'un film de polycarbonate, un film poreux d'alumine ou un film d'oxyde anodique d'aluminium, et les diamètres des trous traversants sont compris de préférence entre 15 et 500 nm. Le film mince métallique peut être formé par pulvérisation et il est composé de préférence d'un alliage platine-palladium.
(JA) NiやFe、Coなどからなる安価かつ高品質な金属ナノチューブを提供する。貫通孔を有する膜の一方の表面に、厚さ10~80nmの金属薄膜を形成して陰極とし、陽極と陰極とのあいだを電解液で満たして電圧を印加する。電解液中の金属イオンが貫通孔の壁面に電気化学的に析出し、金属ナノチューブが形成される。膜としては、ポリカーボネート膜などの熱可塑性樹脂多孔膜や、アルミナ多孔膜、アルミ陽極酸化膜などを用いることができ、貫通孔の直径が15~500nmであると好ましい。また、前記金属薄膜は、スパッタにより形成することができ、白金−パラジウム合金からなると好ましい。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)