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1. WO2005020298 - ELEMENT OPTIQUE ET APPAREIL D'EXPOSITION

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Numéro de publication WO/2005/020298
Date de publication 03.03.2005
N° de la demande internationale PCT/JP2004/012296
Date du dépôt international 26.08.2004
CIB
G02B 7/02 2006.01
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
BÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
7Montures, moyens de réglage ou raccords étanches à la lumière pour éléments optiques
02pour lentilles
G02B 13/00 2006.01
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
BÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
13Objectifs optiques spécialement conçus pour les emplois spécifiés ci-dessous
G03F 7/20 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20Exposition; Appareillages à cet effet
H01L 21/027 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
02Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
027Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe H01L21/18 ou H01L21/34187
CPC
G02B 1/14
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
1Optical elements characterised by the material of which they are made
10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
14Protective coatings, e.g. hard coatings
G03F 7/2041
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
20Exposure; Apparatus therefor
2041in the presence of a fluid, e.g. immersion; using fluid cooling means
G03F 7/70341
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70216Systems for imaging mask onto workpiece
70341Immersion
G03F 7/70875
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
708Construction of apparatus, e.g. environment, hygiene aspects or materials
70858Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
70866of mask or workpiece
70875Temperature
G03F 7/70958
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
708Construction of apparatus, e.g. environment, hygiene aspects or materials
7095Materials, e.g. materials for housing, stage or other support having particular properties, e.g. weight, strength, conductivity, thermal expansion coefficient
70958Optical materials and coatings, e.g. with particular transmittance, reflectance
G03F 7/70983
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
708Construction of apparatus, e.g. environment, hygiene aspects or materials
70983Optical system protection, e.g. pellicles or removable covers for protection of mask
Déposants
  • 株式会社ニコン NIKON CORPORATION [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • 白井 健 SHIRAI, Takeshi [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 國分 崇生 KOKUBUN, Takao [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 石沢 均 ISHIZAWA, Hitoshi [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 村上 敦信 MURAKAMI, Atsunobu [JP]/[JP] (UsOnly)
Inventeurs
  • 白井 健 SHIRAI, Takeshi
  • 國分 崇生 KOKUBUN, Takao
  • 石沢 均 ISHIZAWA, Hitoshi
  • 村上 敦信 MURAKAMI, Atsunobu
Mandataires
  • 長濱 範明 NAGAHAMA, Noriaki
Données relatives à la priorité
2003-30212226.08.2003JP
2003-30251927.08.2003JP
2003-30343227.08.2003JP
2003-33616226.09.2003JP
2004-04184818.02.2004JP
2004-04215718.02.2004JP
2004-04275219.02.2004JP
2004-04422920.02.2004JP
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) OPTICAL ELEMENT AND EXPOSURE DEVICE
(FR) ELEMENT OPTIQUE ET APPAREIL D'EXPOSITION
(JA) 光学素子及び露光装置
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Abrégé
(EN)
An optical element that is used for an exposure device for transferring through a projection optical system a pattern of a mask onto a substrate by illuminating the mask by an exposure light beam and has a predetermined liquid interposed between the surface of the substrate and the projection optical system. The optical element has a dissolution preventive member on the surface of a transmissive optical element on the substrate side of the projection optical system.
(FR)
L'invention porte sur un élément optique utilisé dans un appareil d'exposition pour transférer sur un substrat, par l'intermédiaire d'un système optique de projection, le motif d'un masque, et ceci en éclairant le masque par un faisceau lumineux. Dans cet élément optique, un liquide prédéfini se trouve entre la surface du substrat et le système optique de projection. L'élément optique possède un élément de prévention contre la dissolution sur la surface d'un élément optique transparent, sur la face du substrat du système optique de projection.
(JA)
　露光ビームでマスクを照明し、投影光学系を介して前記マスクのパターンを基板上に転写するための露光装置であって、前記基板の表面と前記投影光学系との間に所定の液体を介在させた前記露光装置に使用される光学素子において、 　前記投影光学系の前記基板側の透過光学素子の表面に第１の溶解防止部材を備えている光学素子。  
Également publié en tant que
CN1842892
EP1670038
EP2278402
EP2284615
IL173860
IL173860
IL215923
JP2010118678
JPWO2005020298
KR1020060120618
KR1020110061623
SG181285
SG195534
US20060203218
US20060291060
US2006291060
US20090103070
US20100220305
US20120206705
US20120212716
US20140043592
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international
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