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1. (WO2005017941) PROCEDE POUR TRAITER UNE MATIERE AVEC UN FAISCEAU DE PARTICULES ET MATIERE AINSI TRAITEE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/017941    N° de la demande internationale :    PCT/US2003/023731
Date de publication : 24.02.2005 Date de dépôt international : 30.07.2003
CIB :
B05D 5/06 (2006.01), B32B 15/08 (2006.01), B32B 15/20 (2006.01), B32B 27/32 (2006.01), B32B 27/36 (2006.01)
Déposants : ENERGY SCIENCES, INC. [US/US]; 42 Industrial Way, Wilmington, MA 01887 (US)
Inventeurs : RANGWALLA, Imtiaz; (US).
CLOUGH, Harvey; (US).
HANNAFIN, George; (US)
Mandataire : GARRETT, Arthur, S.; Finnegan, Henderson, Farabow, Garrett & Dunner,LLP, 1300 I Street, N.W., Washington, D.C. 20005-3315 (US)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) METHOD FOR TREATING A MATERIAL WITH A PARTICLE BEAM AND MATERIAL THUS TREATED
(FR) PROCEDE POUR TRAITER UNE MATIERE AVEC UN FAISCEAU DE PARTICULES ET MATIERE AINSI TRAITEE
Abrégé : front page image
(EN)Methods, and materials made by the methods, are provided herein for treating materials with a particle beam processing device. According to one illustrative embodiment, a method for treating a material with a particle beam processing device is provided that includes: providing a particle beam generating assembly including at least one filament for creating a plurality of particles; applying an operating voltage greater than about 110 kV to the filament to create the plurality of particles; causing the plurality of particles to pass through a thin foil having a thickness of about 10 microns or less; and treating a material with the plurality of particles.
(FR)La présente invention concerne des procédés et des matières réalisées grâce à ces procédés, les procédés servant à traiter des matières au moyen d'un dispositif de traitement par faisceau de particules. Dans un mode de réalisation de l'invention, un procédé pour traiter une matière au moyen d'un dispositif de traitement par faisceau de particules comprend : la mise à disposition d'un système de production de faisceau de particules comprenant au moins un filament destiné à produire une pluralité de particules ; l'application d'une tension de fonctionnement supérieure à environ 110 kV au filament pour produire une pluralité de particules ; le passage des particules à travers un mince film ayant une épaisseur d'environ 10 microns ou moins ; et le traitement d'une matière avec la pluralité de particules.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)