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1. (WO2005017785) PROCEDE DE CREATION DE MOTIFS DESTINE A LA PRODUCTION DE CIRCUITS INTEGRES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/017785    N° de la demande internationale :    PCT/US2003/021997
Date de publication : 24.02.2005 Date de dépôt international : 14.07.2003
CIB :
G06F 17/50 (2006.01)
Déposants : CADENCE DESIGN SYSTEMS, INC. [US/US]; 2655 Seely Avenue, Bldg. 5, San Jose, CA 95134 (US)
Inventeurs : SHEFFER, Louis, K.; (US).
YOSHIDA, Kenji; (JP).
ABE, Yoshikuni; (JP).
FUJIMURA, Aki; (US).
PACK, Robert, C.; (US)
Mandataire : MEI, Peter, C.; Bingham McCutchen LLP, Three Embarcader Center, Suite 1800, San Francisco, CA 94111-4067 (US)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) METHOD FOR CREATING PATTERNS FOR PRODUCING INTEGRATED CIRCUITS
(FR) PROCEDE DE CREATION DE MOTIFS DESTINE A LA PRODUCTION DE CIRCUITS INTEGRES
Abrégé : front page image
(EN)To increase the writing speed of masks,, context information (630) can be used to distinguish the attributes of portions of the mask that are critical from attributes, and portions, that are less critical. By using this information, which may be derived from the design context of the features (620), the mask can be written (640) at a higher speed without sacrificing the accuracy of the important attributes or features.
(FR)Aux fins d'augmenter la vitesse d'écriture de masques, on peut utiliser des informations de contexte (630) pour distinguer les attributs de parties de ce masque qui sont critiques des attributs et des partie qui le sont moins. Par utilisation de ces informations, qui peuvent être dérivées du contexte de conception des caractéristiques (DC), le masque peut-être écrit à une vitesse supérieure sans sacrifier la précision des attributs ou des caractéristiques importants.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)