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1. (WO2005017623) PROCEDE DE REALISATION DE MOTIFS A FLANCS INCLINES PAR PHOTOLITHOGRAPHIE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/017623    N° de la demande internationale :    PCT/FR2004/050377
Date de publication : 24.02.2005 Date de dépôt international : 05.08.2004
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE [FR/FR]; 31-33, rue de la Fédération, F-75752 Paris 15ème (FR) (Tous Sauf US).
RABAROT, Marc [FR/FR]; (FR) (US Seulement).
KIPP, Mathieu [FR/FR]; (FR) (US Seulement).
KOPP, Christophe [FR/FR]; (FR) (US Seulement)
Inventeurs : RABAROT, Marc; (FR).
KIPP, Mathieu; (FR).
KOPP, Christophe; (FR)
Mandataire : POULIN, Gérard; Brevatome, 3, rue du Docteur Lancereaux, F-75008 Paris (FR)
Données relatives à la priorité :
0350410 07.08.2003 FR
Titre (EN) $M(C)METHOD FOR PRODUCING INCLINED FLANK PATTERNS BY PHOTOLITHOGRAPHY
(FR) PROCEDE DE REALISATION DE MOTIFS A FLANCS INCLINES PAR PHOTOLITHOGRAPHIE
Abrégé : front page image
(EN)The invention relates to a lithographic method for producing patterns in a photosensitive resin layer (601) placed on a substrate (600). Said patterns (607) comprises flanks (608) inclined with respect to a normal (n) to the main substrate plane forming an inclination angle ($g(u)) which is much greater than the inclination angle of the patters obtainable by the previous state of the art. A device for carrying out the inventive method is also disclosed.
(FR)L'invention concerne un procédé de photolithographie permettant la réalisation de motifs dans une couche de résine photosensible (601) posée sur un substrat (600). Les motifs (607) comprennent des flancs (608) inclinés par rapport à une normale (n) à un plan principal du substrat et qui présentent un angle d'inclinaison (&thetas;) bien supérieur à celui des motifs obtenus selon l'art antérieur. L'invention concerne également un dispositif permettant de mettre en oeuvre ledit procédé.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : français (FR)
Langue de dépôt : français (FR)