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1. WO2005017620 - DISPOSITIF D'ECLAIRAGE ET POLARISEUR DESTINES A UN SYSTEME D'EXPOSITION DE PROJECTION MICROLITHOGRAPHIQUE

Numéro de publication WO/2005/017620
Date de publication 24.02.2005
N° de la demande internationale PCT/EP2004/008892
Date du dépôt international 09.08.2004
CIB
G03F 7/20 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20Exposition; Appareillages à cet effet
CPC
G03F 7/70058
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70058Mask illumination systems
G03F 7/70566
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70483Information management, control, testing, and wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
7055Exposure light control, in all parts of the microlithographic apparatus, e.g. pulse length control, light interruption
70566Polarisation control
Déposants
  • CARL ZEISS SMT AG [DE]/[DE] (AllExceptUS)
  • FIOLKA, Damian [DE]/[DE] (UsOnly)
  • SCHOLZ, Axel [DE]/[DE] (UsOnly)
  • MAUL, Manfred [DE]/[DE] (UsOnly)
Inventeurs
  • FIOLKA, Damian
  • SCHOLZ, Axel
  • MAUL, Manfred
Mandataires
  • SCHWANHÄUSSER, Gernot
Données relatives à la priorité
PCT/EP03/0901714.08.2003EP
Langue de publication allemand (DE)
Langue de dépôt allemand (DE)
États désignés
Titre
(DE) BELEUCHTUNGSEINRICHTUNG SOWIE POLARISATOR FÜR EINE MIKROLITHOGRAPHISCHE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE
(EN) ILLUMINATION DEVICE AND POLARISER FOR A MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE INSTALLATION
(FR) DISPOSITIF D'ECLAIRAGE ET POLARISEUR DESTINES A UN SYSTEME D'EXPOSITION DE PROJECTION MICROLITHOGRAPHIQUE
Abrégé
(DE)
Eine Beleuchtungseinrichtung für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage umfasst eine Lichtquelle (1) zur Erzeugung von Projektionslicht, eine Maskierungseinrichtung (5) zur Maskierung eines Retikels (R) und ein Maskierungsobjektiv (6) zur Abbildung der Maskierungseinrichtung (5) auf das Retikel (R). Ferner ist in dem Maskierungsobjektiv (6) ein Polarisator (10) zur Erzeugung linear polarisierten Lichts angeordnet. Der Polarisator (10) kann beispielsweise einem Winkel zueinander angeordnete polarisationsselektive Strahlteilerschichten (54, 56; 154, 156; 292, 294) aufweisen, die für Licht in einem ersten Polarisationszustand (68) durchlässig und für Licht in einem von dem ersten Polarisationszustand (68) verschiedenen zweiten Polarisationszustand (70) reflektierend ist. Dadurch ergibt sich eine insgesamt sehr flache Bauform des Polarisators (10).
(EN)
The invention relates to an illumination device for a microlithographic projection exposure installation, said device comprising a light source (1) for generating projection light, a masking device (5) for masking a reticle (R), and a masking objective (6) for imaging the masking device (5) onto the reticle (R). A polariser (10) for generating linearly polarised light is also arranged in the masking objective (6). Said polariser (10) can, for example, be provided with polarisation-selective beam splitter layers (54, 56; 154, 156; 292, 294) that are arranged at an angle to each other, are light-permeable in a first polarisation state (68), and are light-reflective in a second polarisation state (70) different to the first polarisation state (68). In this way, the polariser (10) generally has a very flat structural form.
(FR)
L'invention concerne un dispositif d'éclairage destiné à un système d'exposition de projection microlithographique, comportant une source de lumière (1) destinée à produire de la lumière de projection, un dispositif de masquage (5) destiné à masquer un réticule (R), et un objectif de masquage (6) destiné à reproduire le dispositif de masquage (5) sur le réticule (R). L'objectif de masquage (6) comporte également un polariseur (10) destiné à produire de la lumière polarisée linéairement. Le polariseur (10) peut par exemple comporter des couches de division de faisceau (54, 56 ; 154, 156 ; 292, 294) sélectives par rapport à la polarisation, disposées à un angle les unes par rapport aux autres, se révélant transparentes pour de la lumière dans un premier état de polarisation (68), et réflectrices pour de la lumière dans un deuxième état de polarisation (70) différent du premier (68). Ainsi, il est possible d'obtenir une construction d'ensemble très plate de polariseur (10).
Également publié en tant que
EP2004801828
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