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1. (WO2005017483) PROCEDE D'EVALUATION DE LA REPARTITION D'UNE SOURCE DE LUMIERE, PROCEDE DE FABRICATION D'UN ELEMENT OPTIQUE, DISPOSITIF OPTIQUE D'ECLAIREMENT, PROCEDE ET APPAREIL D'EXPOSITION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/017483    N° de la demande internationale :    PCT/JP2004/011131
Date de publication : 24.02.2005 Date de dépôt international : 04.08.2004
CIB :
G01J 1/02 (2006.01), G01M 11/02 (2006.01), G02B 3/00 (2006.01), G03F 7/20 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01)
Déposants : NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008331 (JP) (Tous Sauf US).
TOYODA, Mitsunori [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KITA, Naonori [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : TOYODA, Mitsunori; (JP).
KITA, Naonori; (JP)
Mandataire : YAMAGUCHI, Takao; Daiichi Bldg., 10, Kanda-tsukasacho 2-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1010048 (JP)
Données relatives à la priorité :
2003-294096 18.08.2003 JP
2003-350400 09.10.2003 JP
Titre (EN) ILLUMINANT DISTRIBUTION EVALUATING METHOD, OPTICAL MEMBER MANUFACTURING METHOD, ILLUMINATION OPTICAL DEVICE, EXPOSURE APPARATUS, AND EXPOSURE METHOD
(FR) PROCEDE D'EVALUATION DE LA REPARTITION D'UNE SOURCE DE LUMIERE, PROCEDE DE FABRICATION D'UN ELEMENT OPTIQUE, DISPOSITIF OPTIQUE D'ECLAIREMENT, PROCEDE ET APPAREIL D'EXPOSITION
(JA) 照度分布の評価方法、光学部材の製造方法、照明光学装置、露光装置および露光方法
Abrégé : front page image
(EN)A production method for managing the variation of the shape of a micro refractive surface so as to obtain an illuminant distribution with a desired accuracy by using an optical member such as a micro fly-eye lens. The method comprises a measuring step (S11) of measuring the two-dimensional illuminant distribution produced through each partial region of a micro fly-eye lens, a converting step (S12) of converting the two-dimensional illuminant distribution into a linear illuminant distribution in a predetermined direction, a setting step (S13A) for setting a Chbyshev polynomial as a polynomial for evaluating the linear illuminant distribution, an approximating step (S13B) of approximating the linear illuminant distribution with the Chebyshev polynomial and determining the coefficient of each term of the Chebyshev polynomial, and a managing step (S14) of managing the variation of the shape of each optical element by using the information on the coefficient of each term as a management index.
(FR)L'invention porte sur un procédé de production permettant de gérer la variation de la forme d'une microsurface de réfraction de manière à obtenir une répartition de la source de lumière avec une précision désirée en utilisant un élément optique tel qu'une microlentille à perspective spatiale. Ce procédé comprend une étape (S11) consistant à mesurer la répartition de la source de lumière bidimensionnelle produite par chaque région partielle d'une microlentille à perspective spatiale ; une étape (S12) de conversion de la distribution de la source de lumière bidimensionnelle en une distribution linéaire dans un sens prédéterminé ; une étape (S13A) visant à établir une fonction polynomiale de Chebyshev comme fonction polynomiale de l'évaluation de la répartition linéaire de la source de lumière ; une étape (S13B) visant à effectuer par approximation la répartition linéaire de la source de lumière avec la fonction polynomiale de Chebyshev et à déterminer le coefficient de chaque terme de la fonction polynomiale de Chebyshev et une étape (S14) de gestion de la variation de la forme de chaque élément optique en utilisant l'information donnée par le coefficient de chaque terme comme indice de gestion.
(JA) たとえばマイクロフライアイレンズのような光学部材を介して所要精度の照度分布が得られるように微小屈折面の形状のばらつきを管理することのできる製造方法。マイクロフライアイレンズの各部分領域を介して形成される二次元的な照度分布を計測する計測工程(S11)と、二次元的な照度分布を所定方向に沿った一次元的な照度分布に変換する変換工程(S12)と、一次元的な照度分布を評価するための多項式としてチェビシェフ多項式を設定する設定工程(S13A)と、一次元的な照度分布をチェビシェフ多項式で近似して各項の係数を求める近似工程(S13B)と、各項の係数に関する情報を管理指標として各光学要素の形状ばらつきを管理する管理工程(S14)とを含む。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)