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1. (WO2005017228) PROCEDE ET DISPOSITIF POUR L'APPLICATION DE REVETEMENT SUR UN SUBSTRAT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/017228    N° de la demande internationale :    PCT/NL2004/000566
Date de publication : 24.02.2005 Date de dépôt international : 12.08.2004
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    13.06.2005    
CIB :
C23C 4/12 (2006.01), C23C 16/513 (2006.01), C23C 16/52 (2006.01)
Déposants : OTB GROUP B.V. [NL/NL]; Luchthavenweg 10, NL-5657 EB Eindhoven (NL) (Tous Sauf US).
BIJKER, Martin, Dinant [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
BOSCH, Roland, Cornelis, Maria [NL/NL]; (NL) (US Seulement).
DINGS, Franciscus, Cornelius [NL/NL]; (NL) (US Seulement)
Inventeurs : BIJKER, Martin, Dinant; (NL).
BOSCH, Roland, Cornelis, Maria; (NL).
DINGS, Franciscus, Cornelius; (NL)
Mandataire : WINCKELS, J., H., F.; Vereenigde, Johan de Wittlaan 7, NL-2517 JR Den Haag (NL)
Données relatives à la priorité :
1024101 13.08.2003 NL
Titre (EN) METHOD AND AN APPARATUS FOR APPLYING A COATING ON A SUBSTRATE
(FR) PROCEDE ET DISPOSITIF POUR L'APPLICATION DE REVETEMENT SUR UN SUBSTRAT
Abrégé : front page image
(EN)A method and apparatus for applying a coating on a substrate, wherein, opposite the substrate, at least two expanding thermal plasma (ETP) sources are arranged which provide the substrate with a coating, wherein the substrate is located in a process room in which the pressure is lower than the pressure, prevailing in the ETP sources, of a carrier gas which is introduced into the process room via the sources and which forms the expanding plasma, wherein the coating provided by each source has a layer thickness according to a certain deposition profile, for instance a Gaussian deposition profile, and wherein different process parameters are chosen such that, after the coating process, the addition of the deposition profiles results in a substantially uniform layer thickness of the coating on a relevant part of the substrate. Preferably, the distance between sources producing plasma at the same time is chosen and/or settable such that the expanding plasmas substantially do not influence each other.
(FR)L'invention concerne un procédé et un dispositif pour l'application de revêtement sur un substrat. A l'opposé du substrat se trouvent deux sources de plasma thermique à expansion qui fournissent le revêtement. Le substrat se trouve dans une chambre de traitement à pression inférieure à celle des sources de plasma thermique pour le gaz porteur introduit dans ladite chambre via les sources, formant le plasma à expansion. Le revêtement fourni par chaque source a une épaisseur de couche répondant à un profil de dépôt spécifique, par exemple de type gaussien. On choisit différents paramètres de traitement pour que, après le processus de revêtement, l'addition des profils de dépôt donne une épaisseur de couche sensiblement uniforme sur une partie pertinente du substrat. De préférence, la distance entre les sources produisant le plasma au même moment est choisie et/ou susceptible d'être déterminée pour que les plasmas à expansion ne s'influencent sensiblement pas.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)