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1. (WO2005017221) MATERIAU POUR MASQUE PERFORE, SON PROCEDE DE PRODUCTION, MASQUE PERFORE OBTENU A PARTIR DU MATERIAU DE MASQUE PERFORE ET TUBE A IMAGE COMPORTANT UN TEL MASQUE PERFORE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/017221    N° de la demande internationale :    PCT/JP2003/010403
Date de publication : 24.02.2005 Date de dépôt international : 18.08.2003
CIB :
C21D 8/02 (2006.01)
Déposants : TOYO KOHAN CO., LTD. [JP/JP]; 2-12, Yonbancho, Chiyoda-ku, Tokyo 102-8447 (JP) (Tous Sauf US).
UEDA, Toshiyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
AOKI, Shinichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : UEDA, Toshiyuki; (JP).
AOKI, Shinichi; (JP)
Données relatives à la priorité :
Titre (EN) MATERIAL FOR SHADOW MASK, PROCESS FOR PRODUCING THE SAME, SHADOW MASK FROM THE SHADOW MASK MATERIAL AND PICTURE TUBE INCLUDING THE SHADOW MASK
(FR) MATERIAU POUR MASQUE PERFORE, SON PROCEDE DE PRODUCTION, MASQUE PERFORE OBTENU A PARTIR DU MATERIAU DE MASQUE PERFORE ET TUBE A IMAGE COMPORTANT UN TEL MASQUE PERFORE
(JA) シャドウマスク用素材、その製造方法、シャドウマスク用素材からなるシャドウマスク及びそのシャドウマスクを組み込んだ受像管
Abrégé : front page image
(EN)A material for shadow mask excelling in tensile strength and magnetic properties; a process for producing the same; a shadow mask from the shadow mask material; and a picture tube including the shadow mask. A billet comprising C: ≤ 0.004 wt.%, Si: ≤ 0.03 wt.%, Mn: 0.1 to 0.5 wt.%, P: ≤ 0.02 wt.%, S: ≤ 0.02 wt.%, Al: 0.01 to 0.07 wt.%, N: ≤ 0.0040 wt.%, B: ≤ 0.01 wt.%, Nb: ≤ 0.1 wt.% and Ti: 0.0001 to 0.1 wt.% with the remainder composed of Fe and unavoidable impurities is subjected to hot rolling, pickling and cold rolling, further to continuous annealing or box annealing so as to regulate the content of residual C to 0.003 wt.% or less, and still further to secondary cold rolling at a rolling rate of 20 to 92%. Thus, a material for shadow mask is obtained.
(FR)La présente invention a trait à un matériau pour masque perforé présentant une excellente résistance à la traction et d'excellentes propriétés magnétiques ; à son procédé de production ; à un masque perforé obtenu à partir du matériau de masque perforé ; et à un tube à image comportant le masque perforé. Une billette comportant C : $m(F) 0,004 % en poids ; Si : $m(F) 0,03 % en poids ; Mn : 0,1 à 0,5 % en poids ; P :$m(F) 0,02 % en poids ; S : $m(F) 0,02 % en poids ; Al : 0,01 à 0,07 % en poids ; N : $m(F) 0,0040 % en poids ; B : $m(F) 0,01 % en poids ; Nb : $m(F) 0,1 % en poids ; et Ti : 0,0001 à 0,1 % en poids, le reste étant constitué de fer et d'impuretés inévitables est soumise à un laminage à chaud, un décapage et un laminage à froid, également à un recuit continu de manière à contrôler la teneur en carbone résiduel à une valeur égale ou inférieure à 0,003 % en poids, et également à un laminage secondaire à un taux de laminage de 20 à 92 %. On obtient ainsi un matériau pour masque perforé.
(JA)引張強度、磁気特性に優れたシャドウマスク用素材、その製造方法、シャドウマスク用素材からなるシャドウマスク及びそのシャドウマスクを組み込んだ受像管を提供することを目的とする。成分が、C:≦0.004重量%、Si:≦0.03重量%、Mn:0.1~0.5重量%、P:≦0.02重量%、S:≦0.02重量%、Al:0.01~0.07重量%、N:≦0.0040重量%、B:≦0.01重量%、Nb:≦0.1重量%、Ti:0.0001~0.1重量%含有されており、残部がFeおよび不可避的不純物からなる鋼片を、熱間圧延、酸洗、冷間圧延した後、連続焼鈍工程あるいは箱型焼鈍工程にて、残存C量を0.003重量%以下にし、更に二次冷間圧延を20~92%で行ってシャドウマスク用素材を得る。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)