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1. (WO2005016995) DERIVES DE SILOXANE DE 1,3-OXATHIOLANE-2-THIONES, LEUR PREPARATION ET LEUR UTILISATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/016995    N° de la demande internationale :    PCT/EP2004/003602
Date de publication : 24.02.2005 Date de dépôt international : 05.04.2004
CIB :
C07F 7/18 (2006.01), C08G 75/14 (2006.01), C08G 75/28 (2006.01), C08G 77/28 (2006.01)
Déposants : HENKEL KOMMANDITGESELLSCHAFT AUF AKTIEN [DE/DE]; Henkelstrasse 67, 40589 Düsseldorf (DE) (Tous Sauf US).
UENISHI, Kazuya [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SUDO, Atsushi, [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
MORIKAWA, Hiroshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
GENTSCHEV, Pavel [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
LAMMERSCHOP, Olaf [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
HUVER, Thomas [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
ENDO, Takeshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : UENISHI, Kazuya; (JP).
SUDO, Atsushi,; (JP).
MORIKAWA, Hiroshi; (JP).
GENTSCHEV, Pavel; (DE).
LAMMERSCHOP, Olaf; (DE).
HUVER, Thomas; (DE).
ENDO, Takeshi; (JP)
Données relatives à la priorité :
03018504.5 15.08.2003 EP
Titre (EN) SILOXANE DERIVATIVES OF 1,3-OXATHIOLANE-2-THIONES, THEIR PREPARATION AND USE THEREOF
(FR) DERIVES DE SILOXANE DE 1,3-OXATHIOLANE-2-THIONES, LEUR PREPARATION ET LEUR UTILISATION
Abrégé : front page image
(EN)The present invention relates to 1,3-oxathiolane-2-thione compounds of the general formula (I): wherein R1 and R2 are the same or different, each of which denotes a straight-chain or branched alkoxy residue with 1 to 6 carbon atoms or an aryloxy or aralkyloxy residue, R3 is different or the same as R1 or R2 or an aliphatic residue, an amino residue, a halogen residue, an aromatic or heteroaromatic residue, or an araliphatic or heteroaraliphatic residue, R4 is a bridging group selected from the groups consisting of aliphatic, heteroaliphatic, araliphatic, heteroaraliphatic, aromatic and heteroaromatic groups and R5 is hydrogen, an aliphatic, heteroaliphatic, araliphatic, heteroaraliphatic, aromatic, heteroaromatic, cycloaliphatic or heterocycloaliphatic group or R4 and R5 form a cycloaliphatic, cycloheteroaliphatic, aromatic or heteroaromatic residue, which is optionally substituted with an aliphatic, heteroaliphatic residue serving as a bridging group to the silicone atom and X and Y are different and selected from oxygen and sulfur and mixtures of such compounds. A further objective is to provide a method of production of such compounds, compounds synthesized from the 1,3-oxathiolane2-thiones and their use in a variety of coating and bonding applications.
(FR)La présente invention concerne des composés 1,3-oxathiolane-2-thione de formule générale (I), dans laquelle R1 et R2 sont identiques ou différents, chacun représentant une chaîne droite ou un résidu d'alkoxy ramifié avec 1 à 6 atomes de carbone ou un résidu d'aryloxy ou d'aralkyloxy, R3 est différent ou identique à R1 ou R2 ou à un résidu aliphatique, un résidu d'amino, un résidu d'halogène, un résidu aromatique ou hétéroaromatique, ou un résidu araliphatique ou hétéroaraliphatique, R4 représente un groupe de pontage sélectionné parmi les groupes comprenant des groupes aliphatiques, hétéroaliphatiques, araliphatiques, hétéroaliphatiques, aromatiques et hétéroaromatiques et R5 représente l'hydrogène, un groupe aliphatique, hétéroaliphatique, araliphatique, hétéroaliphatique, aromatique, hétéroaromatique, cycloaliphatique ou hétérocycloaliphatique ou R4 et R5 forment un résidu cycloaliphatique, cyclohétéroaliphatique, aromatique ou hétéroaromatique, qui est facultativement substitué par un résidu aliphatique, hétéroaliphatique constituant un groupe de pontage avec l'atome de silicone, X et Y étant différents et sélectionnés parmi l'oxygène et le soufre et des mélanges de tels composés. Ladite invention a aussi trait à un procédé de production de tels composés, à des composés synthétisés à partir de 1,3-oxathiolane-2-thiones et à leur utilisation dans plusieurs applications de revêtement et de liaison.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)