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1. (WO2005016820) CUVE DE REACTION TUBULAIRE ET PROCEDE POUR Y PRODUIRE DU SILICIUM
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/016820    N° de la demande internationale :    PCT/JP2004/011542
Date de publication : 24.02.2005 Date de dépôt international : 11.08.2004
CIB :
C01B 33/02 (2006.01), C01B 33/03 (2006.01)
Déposants : TOKUYAMA CORPORATION [JP/JP]; 1-1, Mikage-cho, Shunan-shi, Yamaguchi 7458648 (JP) (Tous Sauf US).
WAKAMATSU, Satoru [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SUGIMURA, Shigeki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
NAKAMURA, Yasuo [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
TSUJIO, Kenichi [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : WAKAMATSU, Satoru; (JP).
SUGIMURA, Shigeki; (JP).
NAKAMURA, Yasuo; (JP).
TSUJIO, Kenichi; (JP)
Mandataire : SUZUKI, Shunichiro; S.SUZUKI & ASSOCIATES, Gotanda Yamazaki Bldg. 6F, 13-6, Nishigotanda 7-chome, Shinagawa-ku Tokyo 1410031 (JP)
Données relatives à la priorité :
2003-293197 13.08.2003 JP
Titre (EN) TUBULAR REACTION VESSEL AND PROCESS FOR PRODUCING SILICON THEREWITH
(FR) CUVE DE REACTION TUBULAIRE ET PROCEDE POUR Y PRODUIRE DU SILICIUM
(JA) 管型反応容器および該反応容器を用いたシリコンの製造方法
Abrégé : front page image
(EN)A reaction vessel that avoids excessive temperature load on constituent members thereof, enabling smooth fall and recovery of formed silicon and that even when scaled up to industrially large-dimension production facilities, ensures efficient reaction of raw gases for silicon precipitation and inhibits the occurrence of silicon micropowder and silane oligomer components, thereby realizing long-term industrial production of silicon. In particular, there is provided a tubular reaction vessel having a space surrounded by a vertically extending wall, characterized in that an inflow port for raw gases for silicon precipitation is disposed at an upper part thereof and a precipitated silicon discharge port at a lower end thereof and that flow resistance increase sites are provided on a wall surface of tubular reaction vessel brought into contact with raw gases. The flow resistance increase sites are each at least one selected from among a protrusion, depressed portion and inclination.
(FR)L'invention concerne une cuve de réaction qui permet d'éviter une charge de température excessive sur ses composants, activant une chute lisse et une récupération du silicium formé, et qui, même conçue à l'échelle de grandes installations de production industrielle, garantit une réaction efficace de gaz bruts aux fins de la précipitation du silicium, et inhibe la survenue de micropoudre de silicium et de composants oligomères silane, ce qui permet de réaliser une production industrielle de silicium à long terme. Plus précisément, l'invention concerne une cuve de réaction tubulaire ayant un espace entouré d'une paroi s'étendant verticalement, qui se caractérise en ce qu'un orifice d'amenée de gaz bruts destinés à la précipitation du silicium est disposé sur une partie supérieure de celle-ci, et l'orifice d'évacuation du silicium précipité à une extrémité inférieure de celle-ci et que des sites d'augmentation de la résistance à l'écoulement sont installés sur une surface de la paroi de la cuve de réaction venant en contact des gaz bruts. Au moins chacun desdites sites est choisi entre saillie, partie surbaissée et inclinaison.
(JA) 反応容器の構成部材に過剰な温度負荷をかけることなく、生成したシリコンをスムーズに落下回収し、また、工業的に大規模な製造設備にスケールアップしてもシリコン析出用原料ガスを効率よく反応させ、かつシリコン微粉やシラン類オリゴマー成分の発生も抑制し、長期間にわたって工業的にシリコンの製造が可能な反応容器を提供する。  上下方向に延在する壁により囲まれた空間を形成した管型反応容器であり、上部にシリコン析出用原料ガス流入口と、下端に析出シリコン排出口とを備え、前記管型反応容器の原料ガスと接触する壁面に流通抵抗増加部位が形成されていることを特徴とする管型反応容器。流通抵抗増加部位が、突起、凹部、または傾斜から選ばれる少なくとも1種である。        
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)