WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2005016645) PRECURSEUR DE PLAQUE D'IMPRESSION LITHOGRAPHIQUE POSITIF THERMOSENSIBLE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/016645    N° de la demande internationale :    PCT/EP2004/008911
Date de publication : 24.02.2005 Date de dépôt international : 09.08.2004
CIB :
B41C 1/10 (2006.01), G03F 7/004 (2006.01), G03F 7/039 (2006.01)
Déposants : KODAK POLYCHROME GRAPHICS GMBH [DE/DE]; An der Bahn 80, 37520 Osterode (DE) (Tous Sauf US).
HAUCK, Gerhard [DE/DE]; (DE) (US Seulement).
FRANK, Dietmar [DE/DE]; (DE) (US Seulement)
Inventeurs : HAUCK, Gerhard; (DE).
FRANK, Dietmar; (DE)
Mandataire : ENGLBRECHT, Ursula; Vossius & Partner, Siebertstrasse 4, 81675 Munich (DE)
Données relatives à la priorité :
103 37 506.6 14.08.2003 DE
Titre (EN) HEAT-SENSITIVE POSITIVE WORKING LITHOGAPHIC PRINTING PLATE PRECURSOR
(FR) PRECURSEUR DE PLAQUE D'IMPRESSION LITHOGRAPHIQUE POSITIF THERMOSENSIBLE
Abrégé : front page image
(EN)Heat-sensitive element comprising a) an optionally pretreated substrate; b) a positive working coating comprising (i) at least 40 wt.-%, based on the dry weight of the coating, of at least one polymer soluble in aqueous alkaline developer selected from novolak resins, functionalized novolak resins, polyvinylphenol resins, polyvinyl cresols and poly(meth)acrylates with phenolic and/or sulfonamide side groups, (ii) 01-20 wt.-%, based on the dry weight of the coating, of at least one (C4-C20 alkyl)phenol novolak resin insoluble in aqueous alkaline developer, and (iii) optionally at least one further component selected from polymer particles, surfactants, contrast dyes and pigments, inorganic fillers, antioxidants, print-out dyes, carboxylic acid derivatives of cellulose polymers, plasticizers and substances capable of absorbing radiation of a wavelength from the range of 650 to 1,300 nm and converting it into heat.
(FR)La présente invention se rapporte à un élément thermosensible, qui comprend : a) un substrat éventuellement prétraité; b) un revêtement positif contenant (i) au moins 40 % poids, sur la base du poids sec du revêtement, d'au moins un polymère soluble dans un révélateur alcalin aqueux sélectionné parmi les résines novolaques, les résines novolaques fonctionnalisées, les résines de polyvinyle phénol, les crésols de polyvinyle et les poly(méth)acrylates renfermant des groupes latéraux phénoliques et/ou sulfonamide, (ii) de 0,1 à 20 % poids, sur la base du poids sec du revêtement, d'au moins une résine novolaque de (C4-C20 alkyle)phénol insoluble dans un révélateur alcalin aqueux, et (iii) éventuellement au moins un autre élément sélectionné parmi des particules polymères, des tensioactifs, des colorants et des pigments de contraste, des matières de remplissage inorganiques, des antioxydants, des colorants d'impression, des dérivés d'acide carboxylique de polymères de cellulose, des plastifiants et des substances pouvant absorber un rayonnement d'une longueur d'onde comprise entre 650 et 1300 nm et le transformer en chaleur.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)