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1. (WO2005016516) RESEAU ALEATOIRE DE MICROSPHERES
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/016516    N° de la demande internationale :    PCT/US2004/022364
Date de publication : 24.02.2005 Date de dépôt international : 14.07.2004
CIB :
B01J 19/00 (2006.01)
Déposants : EASTMAN KODAK COMPANY [US/US]; 343 State Street, Rochester, NY 14650-2201 (US) (Tous Sauf US).
CHARI, Krishnan [US/US]; (US) (US Seulement).
GAO, Zhanjun [US/US]; (US) (US Seulement).
SEDITA, Joseph Salvatore [US/US]; (US) (US Seulement).
HANUMANTHU, Ramasubramaniam [IN/US]; (US) (US Seulement).
LUSIGNAN, Charles P. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : CHARI, Krishnan; (US).
GAO, Zhanjun; (US).
SEDITA, Joseph Salvatore; (US).
HANUMANTHU, Ramasubramaniam; (US).
LUSIGNAN, Charles P.; (US)
Représentant
commun :
EASTMAN KODAK COMPANY; 343 State Street, Rochester, NY 14650-2201 (US)
Données relatives à la priorité :
10/625,428 23.07.2003 US
10/868,082 15.06.2004 US
Titre (EN) RANDOM ARRAY OF MICROSPHERES
(FR) RESEAU ALEATOIRE DE MICROSPHERES
Abrégé : front page image
(EN)An element containing an array of microspheres on a support is described, and a method of making the element, wherein the method includes coating a support with a coating composition to form a receiving layer with a modifiable elastic modulus; coating on the receiving layer a dispersion of microspheres in a fluid suspension; modifying the modulus of the receiving layer to allow the microspheres to partially submerge into the receiving layer; removing the fluid suspension from the receiving layer; and fixing the microspheres in the receiving layer so that the element can withstand wet processing.
(FR)L'invention concerne un élément contenant un réseau de microsphères sur un support, et un procédé de fabrication de cet élément. Ce procédé consiste à revêtir un support d'une composition de revêtement en vue de former une couche réceptrice avec un module élastique modifiable; à revêtir sur la couche de réception une dispersion de microsphères dans une suspension fluide; à modifier le module de la couche de réception en vue de permettre aux microsphères de submerger partiellement la couche de réception; à éliminer la suspension fluidique de la couche de réception; et à fixer les microsphères dans la couche de réception de manière que l'élément puisse résister à un traitement humide.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)