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1. (WO2005015628) DISPOSITIF DE TRAITEMENT AU PLASMA ET PROCEDE D'INCINERATION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/015628    N° de la demande internationale :    PCT/JP2004/011657
Date de publication : 17.02.2005 Date de dépôt international : 06.08.2004
CIB :
H01L 21/3065 (2006.01)
Déposants : SHIBAURA MECHATRONICS CORPORATION [JP/JP]; 5-1, Kasama 2-chome, Sakae-ku Yokohama-shi, Kanagawa 247-8560 (JP) (Tous Sauf US).
IINO, Yoshinori [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : IINO, Yoshinori; (JP)
Mandataire : HYUGAJI, Masahiko; 6th Floor, Kannaifudosan Motomachi 2nd Bldg. 4-168, Motomachi, Naka-ku Yokohama-shi, Kanagawa 231-0861 (JP)
Données relatives à la priorité :
2003-207379 12.08.2003 JP
Titre (EN) PLASMA PROCESSING DEVICE AND ASHING METHOD
(FR) DISPOSITIF DE TRAITEMENT AU PLASMA ET PROCEDE D'INCINERATION
(JA) プラズマ処理装置及びアッシング方法
Abrégé : front page image
(EN)A plasma processing device, comprising a chamber capable of maintaining an atmosphere depressurized less than the atmospheric pressure, a transmission pipe connected to the chamber, a gas lead-in mechanism leading gas into the transmission pipe, and a microwave supply source leading microwave from the outside to the inside of the transmission pipe. The plasma of the gas is formed in the transmission pipe, and a body to be processed installed in the chamber is processed by the plasma. The plasma processing device is characterized in that the transmission pipe is openably connected to the inner wall of the chamber positioned generally vertical to the principal plane of the body to be processed, and the body to be processed is not installed on the line of direct sight from the plasma.
(FR)L'invention concerne un dispositif de traitement au plasma qui comprend une chambre dans laquelle peut être maintenue une atmosphère à une pression inférieure à la pression atmosphérique, un tuyau de transmission relié à la chambre, un mécanisme d'amenée de gaz, qui conduit du gaz dans le tuyau de transmission, et une source de micro-ondes qui conduit des micro-ondes de l'extérieur vers l'intérieur du tuyau de transmission. Un plasma est formé avec le gaz se trouvant dans le tuyau de transmission et un corps à traiter, monté dans la chambre, est traité au moyen dudit plasma. Ce dispositif de traitement à plasma se caractérise en ce que le tuyau de transmission peut être relié, de façon à pouvoir être ouvert, à la paroi intérieure de la chambre qui est placée en position sensiblement verticale par rapport au plan principal du corps à traiter, ce dernier n'étant pas placé dans la ligne de pointage direct du plasma.
(JA)大気よりも減圧された雰囲気を維持可能なチャンバと、前記チャンバに接続された伝送管と、前記伝送管にガスを導入するガス導入機構と、前記伝送管の外側から内側にマイクロ波を導入するマイクロ波供給源と、を備え、前記伝送管内において前記ガスのプラズマを形成し、前記チャンバ内に設置された被処理体のプラズマ処理を実施可能なプラズマ処理装置であって、前記伝送管は、前記被処理体の主面に対して略垂直な前記チャンバの内壁に開口するように接続され、前記被処理体は、前記プラズマから眺めた直視線上に設けられていないことを特徴とするプラズマ処理装置を提供する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)