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1. (WO2005015625) PROCEDE DE TRAITEMENT D'UN SUBSTRAT, ET APPAREIL CORRESPONDANT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/015625    N° de la demande internationale :    PCT/JP2003/015431
Date de publication : 17.02.2005 Date de dépôt international : 02.12.2003
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    08.03.2005    
CIB :
H01L 21/00 (2006.01), H01L 21/306 (2006.01)
Déposants : S.E.S. CO., LTD. [JP/JP]; 9-18, Imai 3-chome, Oume-shi, Tokyo 198-0023 (JP) (Tous Sauf US).
NAKATSUKASA, Katsuyoshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
OGASAWARA, Kazuhisa [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SAKAIHARA, Yoshiaki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
HARUKI, Yoshihiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KAWATE, Munenori [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : NAKATSUKASA, Katsuyoshi; (JP).
OGASAWARA, Kazuhisa; (JP).
SAKAIHARA, Yoshiaki; (JP).
HARUKI, Yoshihiro; (JP).
KAWATE, Munenori; (JP)
Mandataire : WIN TECH PATENT OFFICE; 4th FL., Wenping Kanda BLDG., 6-7, Kanda Kajicho 3-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 101-0045 (JP)
Données relatives à la priorité :
2003-292523 12.08.2003 JP
Titre (EN) METHOD OF PROCESSING SUBSTRATE AND SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS
(FR) PROCEDE DE TRAITEMENT D'UN SUBSTRAT, ET APPAREIL CORRESPONDANT
(JA) 基板処理方法及び基板処理装置
Abrégé : front page image
(EN)Substrate processing apparatus (10) comprising vapor generation unit (371) capable of bubbling an organic solvent with an inert gas to thereby generate a mixed gas of organic solvent vapor and inert gas; support means for supporting multiple substrates to be processed at equal pitches and in parallel and vertical posture; processing vessel (15) in which a collection of substrates supported by the above support means is accommodated; lid (30) for covering an upper opening of the processing vessel (15); jet nozzles (33) fitted to the lid (30); and first piping (3712), (342), (3421), (3422) communicating the vapor generation unit (371) and the jet nozzles (33) with each other, wherein the first piping and the jet nozzles are equipped with respective heaters, these heaters controlled so that the dry gas injected through the jet nozzles contains organic solvent mists of submicron size.
(FR)L'invention concerne un appareil de traitement d'un substrat (10), comprenant un bloc générateur de vapeur (371) capable de faire barboter un solvant organique avec un gaz inerte, de manière à générer un gaz mixte formé de vapeur de solvant organique et de gaz inerte ; des moyens destinés à supporter de multiples substrats à traiter, à des intervalles égaux et en position parallèle et verticale ; un récipient de traitement (15) destiné à recevoir une collecte de substrats supportés par les moyens supports précités ; un couvercle (30) destiné à recouvrir une ouverture supérieure du récipient de traitement (15) ; des tuyères d'éjection (33) ajustées au couvercle (30) ; et une première tuyauterie (3712), (342), (3421), (3422) faisant communiquer entre eux le bloc générateur de vapeur (371) et les tuyères d'éjection (33), la première tuyauterie et lesdites tuyères étant équipées de réchauffeurs respectifs, ces réchauffeurs étant réglés de façon que le gaz anhydre injecté au travers des tuyères d'éjection contienne des brouillards de solvant organique en particules de l'ordre de grandeur du sous-micron.
(JA)not available
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NI, NO, NZ, OM, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PT, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)