WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2005015317) SYSTEME ET PROCEDE D'EXPOSITION DE MOTIF
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/015317    N° de la demande internationale :    PCT/JP2004/007687
Date de publication : 17.02.2005 Date de dépôt international : 03.06.2004
CIB :
G03F 7/20 (2006.01), H01L 21/027 (2006.01), H01L 21/30 (2006.01)
Déposants : SHARP KABUSHIKI KAISHA [JP/JP]; 22-22, Nagaike-cho Abeno-ku, Osaka-shi Osaka 545-8522 (JP) (Tous Sauf US).
KOKUBO, Fumio; (US Seulement).
NISHIKAWA, Masayuki; (US Seulement)
Inventeurs : KOKUBO, Fumio; .
NISHIKAWA, Masayuki;
Mandataire : HARA, Kenzo; Harakenzo World Patent & Trademark Patent Law Firm Daiwa Minamimorimachi Building 2-6, Tenjinbashi 2-chome Kita, Kita-ku Osaka-shi, Osaka 530-0041 (JP)
Données relatives à la priorité :
2003-206288 06.08.2003 JP
Titre (EN) PATTERN EXPOSING SYSTEM AND PATTERN EXPOSING METHOD
(FR) SYSTEME ET PROCEDE D'EXPOSITION DE MOTIF
(JA) パターン露光装置およびパターン露光方法
Abrégé : front page image
(EN)A pattern exposing system comprising a plurality of optical units, a control means (23) delivering a signal for controlling a pattern width being exposed based on pattern data concerning a target exposure pattern to each optical unit, and a correction operation memory (24) for correcting the control signal being delivered from the control means to each optical unit based on the characteristics of each optical unit (1). In the pattern exposing system comprising a plurality of optical units (1, ...), a pattern faithful to a target pattern can be exposed regardless of the characteristics of each optical unit (1).
(FR)L'invention concerne un système d'exposition de motif comprenant une pluralité d'unités optiques, un moyen de commande (23) qui distribue un signal permettant de commander la largeur d'un motif exposée en fonction de données de motif associées à un motif d'exposition cible à chaque unité optique, et une mémoire de fonctionnement de correction (24) permettant de corriger le signal de commande distribué depuis le moyen de commande à chaque unité optique en fonction des caractéristiques de chaque unité optique (1). Dans le système d'exposition de motif comprenant une pluralité d'unités optiques (1, ), un motif fidèle à un motif cible peut être exposé indépendamment des caractéristiques de chaque unité optique (1).
(JA) パターン露光装置には、複数の光学ユニットと、目標露光パターンに関するパターンデータに基づいて、露光するパターン幅を制御するための制御信号を各光学ユニットに送る制御手段(23)と、制御手段より夫々の光学ユニット(1)に送られる制御信号を、夫々の光学ユニット(1)の特性に基づいて補正する補正演算用メモリ(24)が備えられている。これにより、複数の光学ユニット(1…)が備えられているパターン露光装置において、各光学ユニット(1)の特性に関係なく、目標とするパターンに忠実なパターンを露光できる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)