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1. WO2005015315 - SYSTEME D'EXPOSITION PAR PROJECTION MICROLITHOGRAPHIQUE, ET PROCEDE D'INTRODUCTION D'UN FLUIDE D'IMMERSION DANS UNE CHAMBRE D'IMMERSION

Numéro de publication WO/2005/015315
Date de publication 17.02.2005
N° de la demande internationale PCT/EP2004/007456
Date du dépôt international 08.07.2004
CIB
G03F 7/20 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20Exposition; Appareillages à cet effet
CPC
G03F 7/70341
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70216Systems for imaging mask onto workpiece
70341Immersion
Déposants
  • CARL ZEISS SMT AG [DE]/[DE] (AllExceptUS)
  • GELLRICH, Bernhard [DE]/[DE] (UsOnly)
  • REISINGER, Gerd [DE]/[DE] (UsOnly)
  • SCHMEREK, Dieter [DE]/[DE] (UsOnly)
  • KUGLER, Jens [DE]/[DE] (UsOnly)
Inventeurs
  • GELLRICH, Bernhard
  • REISINGER, Gerd
  • SCHMEREK, Dieter
  • KUGLER, Jens
Mandataires
  • SCHWANHÄUSSER, Gernot
Données relatives à la priorité
103 33 644.324.07.2003DE
Langue de publication allemand (DE)
Langue de dépôt allemand (DE)
États désignés
Titre
(DE) MIKROLITHOGRAPHISCHE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE SOWIE VERFAHREN ZUM EINBRINGEN EINER IMMERSIONSFLÜSSIGKEIT IN EINEM IMMERSIONSRAUM
(EN) MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE SYSTEM, AND METHOD FOR INTRODUCING AN IMMERSION LIQUID INTO AN IMMERSION CHAMBER
(FR) SYSTEME D'EXPOSITION PAR PROJECTION MICROLITHOGRAPHIQUE, ET PROCEDE D'INTRODUCTION D'UN FLUIDE D'IMMERSION DANS UNE CHAMBRE D'IMMERSION
Abrégé
(DE)
Eine Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie umfaßt eine Beleuchtungseinrichtung zur Erzeugung von Projektionslicht und ein Projektionsobjektiv mit mehreren optischen Elementen wie z.B. Linsen (L5), mit dem ein in einer Objektebene des Projektionsobjektivs anordenbares Retikel auf eine in einer Bildebene des Projektionsobjektivs anordenbare und auf einem Träger (30) aufgebrachte lichtempfindliche Oberfläche (26) abbildbar ist. Ferner ist eine Immersionseinrichtung zum Einbringen einer Immersionsflüssigkeit (34) in einen Immersionsraum (50) zwischen einem bildseitig letzten optischen Element (L5) des Projektionsobjektivs und der lichtempfindlichen Oberfläche (26) vorgesehen. Die Immersionseinrichtung weist Mittel (44; 66) auf, durch die das Auftreten von die Abbildungsqualität beeinträchtigenden Gasblasen (48) in der Immersionsflüssigkeit (34) verhindert werden kann und/oder bereits aufgetretene Gasblasen (48) entfernt werden können. Bei diesen Mitteln kann es sich z.B. um eine Ultraschallquelle (66) oder einen Entgaser (44) handeln.
(EN)
The invention relates to a projection exposure system for microlithography, said system comprising an illumination device for generating a projection light, and a projection objective comprising a plurality of optical elements such as lenses (L5) and enabling a reticle that can be arranged in an object plane of the projection objective to be imaged onto a light-sensitive surface (26) that can be arranged in an image plane of the projection objective and is applied to a carrier (30). The inventive system is also provided with an immersion device between an image-side last optical element (L5) of the projection objective and the light-sensitive surface (26), for introducing an immersion liquid (34) into an immersion chamber (50). Said immersion device comprises means (44; 66) which can prevent the appearance of gas bubbles (48) in the immersion liquid (34), affecting the imaging quality, and/or can remove existing gas bubbles (48). Said means can be, for example, an ultrasound source (66) or a degasifier (44).
(FR)
L'invention concerne un système d'exposition par projection utilisé en microlithographie, comprenant un dispositif d'éclairage destiné à générer une lumière de projection ainsi qu'un objectif de projection qui comporte plusieurs éléments optiques tels que des lentilles (L5) et qui permet de reproduire un réticule pouvant être disposé dans un plan objet de l'objectif de projection, sur une surface photosensible (26) pouvant être disposée dans un plan image de l'objectif de projection et reposant sur un support (30). Un dispositif d'immersion servant à introduire un liquide d'immersion (34) dans une chambre d'immersion (50) est en outre ménagé entre un dernier élément optique côté image (L5) de l'objectif de projection et la surface photosensible (26). Ce dispositif d'immersion comporte des moyens (44 ; 66) pouvant empêcher l'apparition de bulles de gaz (48) nuisibles à la qualité de reproduction dans le liquide d'immersion (34) et/ou supprimer des bulles de gaz (48) déjà formées. Lesdits moyens peuvent, par exemple, se présenter sous la forme d'une source d'ultrasons (66) ou d'un dégazeur (44).
Également publié en tant que
EP2004740766
US2007132969
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