WIPO logo
Mobile | Deutsch | English | Español | 日本語 | 한국어 | Português | Русский | 中文 | العربية |
PATENTSCOPE

Recherche dans les collections de brevets nationales et internationales
World Intellectual Property Organization
Recherche
 
Options de navigation
 
Traduction
 
Options
 
Quoi de neuf
 
Connexion
 
Aide
 
Traduction automatique
1. (WO2005013601) COMPOSITION PERMETTANT DE FORMER UNE COUCHE MINCE INFERIEURE DESTINEE A DES FINS LITHOGRAPHIQUES CONTENANT UN COMPOSE COMPRENANT UN GROUPE CARBOXYLE PROTEGE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/013601    N° de la demande internationale :    PCT/JP2004/010939
Date de publication : 10.02.2005 Date de dépôt international : 30.07.2004
CIB :
H04N 1/38 (2006.01), H04N 1/387 (2006.01)
Déposants : NISSAN CHEMICAL INDUSTRIES, LTD. [JP/JP]; 7-1, Kandanishiki-cho 3-chome, Chiyoda-ku Tokyo 1010054 (JP) (Tous Sauf US).
TAKEI, Satoshi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KISHIOKA, Takahiro [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SAKAIDA, Yasushi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SHINJO, Tetsuya [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : TAKEI, Satoshi; (JP).
KISHIOKA, Takahiro; (JP).
SAKAIDA, Yasushi; (JP).
SHINJO, Tetsuya; (JP)
Mandataire : HANABUSA, Tsuneo; c/o Hanabusa Patent Office, Shin-Ochanomizu Urban Trinity, 2, Kandasurugadai 3-chome, Chiyoda-ku Tokyo 1010062 (JP)
Données relatives à la priorité :
2003-282738 30.07.2003 JP
2003-345476 03.10.2003 JP
Titre (EN) COMPOSITION FOR FORMING LOWER LAYER FILM FOR LITHOGRAPHY COMPRISING COMPOUND HAVING PROTECTED CARBOXYL GROUP
(FR) COMPOSITION PERMETTANT DE FORMER UNE COUCHE MINCE INFERIEURE DESTINEE A DES FINS LITHOGRAPHIQUES CONTENANT UN COMPOSE COMPRENANT UN GROUPE CARBOXYLE PROTEGE
(JA) 保護されたカルボキシル基を有する化合物を含むリソグラフィー用下層膜形成組成物
Abrégé : front page image
(EN)[PROBLEMS] To provide a composition for forming a lower layer film for lithography for use in a lithography process for the manufacture of a semiconductor device, and a lower layer film which exhibits an etching rate greater than that of a photoresist and does not cause the intermixing with a photoresist. [MEANS FOR SOLVING PROBLEMS] A composition for forming a lower layer film comprising a compound having a protected carboxyl group, a compound having a group capable of reacting with a carboxyl group and a solvent, or comprising a compound having a group capable of reacting with a carboxyl group and a protected carboxyl group and a solvent.
(FR)L'invention concerne une composition permettant de former une couche mince inférieure destinée à être utilisée dans un procédé lithographique pour la fabrication d'un dispositif à semi-conducteur ainsi qu'une couche mince inférieure qui présente un taux d'attaque supérieur à celui d'une photorésine et qui n'entraîne pas de mélange avec une photorésine. D'une manière plus spécifique, l'invention concerne une composition permettant de former une couche mince inférieure contenant un composé comprenant un groupe carboxyle protégé, un composé comprenant un groupe pouvant réagir avec un groupe carboxyle et un solvant ou contenant un composé comprenant un groupe pouvant réagir avec un groupe carboxyle et un groupe carboxyle protégé et un solvant.
(JA)【課題】  半導体装置製造のリソグラフィープロセスに使用される、リソグラフィー用下層膜形成組成物、及びフォトレジストに比べて大きなドライエッチング速度を有し、そして、フォトレジストとのインターミキシングを起こさない下層膜を提供すること。 【解決手段】  保護されたカルボキシル基を有する化合物、カルボキシル基と反応可能な基を有する化合物及び溶剤を含む下層膜形成組成物、またはカルボキシル基と反応可能な基と保護されたカルボキシル基とを有する化合物及び溶剤を含む下層膜形成組成物。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)