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1. (WO2005013310) METHODE POUR EQUILIBRER DES COURANTS REFLECHIS DANS UN APPAREIL DE TRAITEMENT DE PLASMA
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/013310    N° de la demande internationale :    PCT/US2004/022060
Date de publication : 10.02.2005 Date de dépôt international : 07.07.2004
CIB :
H01J 37/32 (2006.01)
Déposants : LAM RESEARCH CORPORATION [US/US]; 4650 Cushing Parkway, MS CA1, Fremont, California 94536 (US) (Tous Sauf US).
STEGER, Robert, J. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : STEGER, Robert, J.; (US)
Mandataire : RITCHIE, David, B.; Thelen Reid & Priest LLP, P.O. Box 640640, San Jose, California 95164-0640 (US)
Données relatives à la priorité :
10/630,584 29.07.2003 US
Titre (EN) METHOD FOR BALANCING RETURN CURRENTS IN PLASMA PROCESSING APPARATUS
(FR) METHODE POUR EQUILIBRER DES COURANTS REFLECHIS DANS UN APPAREIL DE TRAITEMENT DE PLASMA
Abrégé : front page image
(EN)A plasma processing reactor (200) includes a chamber (202) and a substrate support (216). The chamber includes an opening extending through a sidewall of the chamber. The substrate support is removably mounted within the chamber. The opening of the chamber is large enough to allow the substrate support to be removed from the chamber through the opening. A portion of a surface of the inner sidewall and the substrate support within the chamber has a coating (228). The coating is made of an electrically resistive material. The coating creates an impedance a long the portion of the surface of the inner sidewall, which would otherwise carry a greater portion of the RF return current than the opposite side of the chamber. The coating also creates an impedance along the substrate support so that t he density of the RF return current along the surface of the inner walls of the chamber is substantially more uniform
(FR)L'invention concerne un réacteur de traitement de plasma comprenant un compartiment et un support de substrat. Ce compartiment comprend une ouverture s'étendant à travers une paroi latérale du compartiment. Le support de substrat est monté amovible à l'intérieur du compartiment. L'ouverture du compartiment est assez grande pour permettre au support de substrat d'être retiré du compartiment par l'ouverture. Une partie d'une surface de la paroi latérale intérieure et du support de substrat situé à l'intérieur du compartiment présente un revêtement. Ce revêtement est constitué d'une matière électriquement résistive. Ce revêtement crée une impédance le long de la partie de la surface de la paroi latérale intérieure. Cette impédance porte ainsi une partie du courant réfléchi RF supérieure à celle du côté opposé du compartiment. Ce revêtement crée également une impédance le long du support de substrat, de sorte que la densité du courant réfléchi RF le long de la surface des parois intérieures du compartiment est sensiblement plus uniforme.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)