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1. (WO2005013299) CONDENSATEUR ET PROCEDE DE FABRICATION DE CE DERNIER
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/013299    N° de la demande internationale :    PCT/JP2004/009627
Date de publication : 10.02.2005 Date de dépôt international : 07.07.2004
CIB :
H01G 9/035 (2006.01), H01G 11/22 (2013.01), H01G 11/24 (2013.01), H01G 11/26 (2013.01), H01G 11/28 (2013.01), H01G 11/30 (2013.01), H01G 11/52 (2013.01), H01G 11/54 (2013.01), H01G 11/56 (2013.01), H01G 11/58 (2013.01), H01G 11/60 (2013.01), H01G 11/66 (2013.01), H01G 11/70 (2013.01), H01G 11/84 (2013.01), H01G 11/86 (2013.01), H01G 9/00 (2006.01), H01G 9/028 (2006.01), H01G 9/055 (2006.01), H01G 9/15 (2006.01)
Déposants : EAMEX CORPORATION [JP/JP]; 9-3, Tarumi-cho 3-Chome, Suita-shi Osaka 5640062 (JP) (Tous Sauf US).
ONISHI, Kazuo [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SEWA, Shingo [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SUGIYAMA, Minoru [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
KATO, Kenji [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : ONISHI, Kazuo; (JP).
SEWA, Shingo; (JP).
SUGIYAMA, Minoru; (JP).
KATO, Kenji; (JP)
Mandataire : MIYAZAKI, Tadaaki; Miyazaki International Patent Attorneys Office, Facade Esaka Building 9F, 23-43, Esaka-cho 1-chome, Suita-shi Osaka 5640063 (JP)
Données relatives à la priorité :
2003-193229 07.07.2003 JP
2003-195412 10.07.2003 JP
2003-352909 10.10.2003 JP
2003-376261 05.11.2003 JP
2003-377008 06.11.2003 JP
2003-380211 10.11.2003 JP
2003-403652 02.12.2003 JP
2003-409511 08.12.2003 JP
2004-062508 05.03.2004 JP
2004-117234 12.04.2004 JP
Titre (EN) CAPACITOR AND METHOD FOR MANUFACTURING SAME
(FR) CONDENSATEUR ET PROCEDE DE FABRICATION DE CE DERNIER
(JA) キャパシタ及びその製造方法
Abrégé : front page image
(EN)A capacitor comprising at least a polymer electrolyte between metal electrodes opposite to each other is characterized in that the metal electrodes have projecting portions, which are in contact with the polymer electrolyte and form electrode components of the metal electrodes, in the boundary region with the polymer electrolyte. A method for efficiently manufacturing such a capacitor wherein a metal electrode is formed on a polymer electrolyte by a nonelectrolytic plating process is characterized in that the nonelectrolytic plating process comprises a adsorption step wherein the polymer electrolyte is caused to adsorb a metal complex and a following reduction step wherein the polymer electrolyte on which the metal complex is adsorbed is brought into contact with a reducing solution.
(FR)Un condensateur comprenant au moins un électrolyte polymère situé entre des électrodes métalliques opposées entre elles, se caractérise en ce que les électrodes métalliques comportent des parties saillantes qui sont en contact avec l'électrolyte polymère et forment des éléments d'électrode des électrodes métalliques, dans la région d'interface avec l'électrolyte polymère. Un procédé de fabrication efficace d'un tel condensateur dans lequel une électrode métallique est formée sur un électrolyte polymère au moyen d'un processus de revêtement non électrolytique, se caractérise en ce que le processus de revêtement non électrolytique comprend une étape d'adsorption dans laquelle l'électrolyte polymère est forcé à adsorber un complexe métallique et une étape suivante de réduction dans laquelle l'électrolyte polymère sur lequel le complexe métallique est adsorbé, est mis en contact avec une solution réductrice.
(JA) 対向する金属電極間に、少なくとも高分子電解質を有するキャパシタであって、  前記金属電極は、前記高分子電解質と接し且つ当該金属電極の電極成分を構成する突出し部を、前記高分子電解質との境界領域に有することを特徴とするキャパシタと、このキャパシタを効率的に製造する方法として、無電解メッキ方法により高分子電解質上に金属電極を形成するキャパシタの製造方法であって、前記無電解メッキ方法が、高分子電解質に金属錯体を吸着させる吸着工程を行った後に、金属錯体が吸着した高分子電解質に還元剤溶液を接触させる還元工程を行うことを特徴とする方法を提供する。  
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)