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1. (WO2005013008) PROCEDE ET APPAREIL DE SURVEILLANCE ET DE COMMANDE D'IMAGERIE DANS DES SYSTEMES DE LITHOGRAPHIE PAR IMMERSION
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/013008    N° de la demande internationale :    PCT/US2004/023876
Date de publication : 10.02.2005 Date de dépôt international : 23.07.2004
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    27.07.2005    
CIB :
G03F 7/20 (2006.01)
Déposants : ADVANCED MICRO DEVICES, INC. [US/US]; One AMD Place, Mail Stop 68 P.O.Box 3453, Sunnyvale, CA 94088-3453 (US) (Tous Sauf US).
LEVINSON, Harry, J. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : LEVINSON, Harry, J.; (US)
Mandataire : COLLOPY, Daniel, R.; One AMD Place, Mail Stop 68, P.O. Box 3453, Sunnyvale, CA 94088-3453 (US).
WRIGHT, Hugh, R.; Brookes Batchellor LLP, 102-108 Clerkenwell Road, London EC1M 5SA (GB)
Données relatives à la priorité :
10/628,021 25.07.2003 US
Titre (EN) METHOD FOR MONITORING AND CONTROLLING IMAGING IN IMMERSION LITHOGRAPHY SYSTEMS
(FR) PROCEDE ET APPAREIL DE SURVEILLANCE ET DE COMMANDE D'IMAGERIE DANS DES SYSTEMES DE LITHOGRAPHIE PAR IMMERSION
Abrégé : front page image
(EN)A method of monitoring an immersion lithography system (10) in which a wafer (12) can be immersed in a liquid immersion medium (24). The method detects an index of refraction of the immersion medium in a volume of the immersion medium through which an exposure pattern is configured to traverse and determines if the index of refraction is acceptable for exposing the wafer with the exposure pattern. Also disclosed is a monitoring and control system (26) for an immersion lithography system (10).
(FR)L'invention concerne un procédé de surveillance d'un système de lithographie par immersion (10) qui consiste à immerger une plaquette (12) dans un milieu d'immersion liquide (24). Le procédé permet de détecter un indice de réfraction de ce milieu d'immersion dans un volume dudit milieu d'immersion qu'un motif d'exposition est conçu pour traverser, et de déterminer si l'indice de réfraction est acceptable pour exposer la plaquette avec le motif d'exposition. L'invention concerne enfin un système de surveillance et de commande (26) conçu pour un système de lithographie par immersion (10).
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)