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1. WO2005012591 - CIBLE DE PULVERISATION ET PROCEDE DE PRODUCTION CORRESPONDANT

Numéro de publication WO/2005/012591
Date de publication 10.02.2005
N° de la demande internationale PCT/JP2004/010361
Date du dépôt international 14.07.2004
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 12.01.2005
CIB
C22C 5/00 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
22MÉTALLURGIE; ALLIAGES FERREUX OU NON FERREUX; TRAITEMENT DES ALLIAGES OU DES MÉTAUX NON FERREUX
CALLIAGES
5Alliages à base de métaux nobles
C22C 9/00 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
22MÉTALLURGIE; ALLIAGES FERREUX OU NON FERREUX; TRAITEMENT DES ALLIAGES OU DES MÉTAUX NON FERREUX
CALLIAGES
9Alliages à base de cuivre
C22C 16/00 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
22MÉTALLURGIE; ALLIAGES FERREUX OU NON FERREUX; TRAITEMENT DES ALLIAGES OU DES MÉTAUX NON FERREUX
CALLIAGES
16Alliages à base de zirconium
C22C 19/07 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
22MÉTALLURGIE; ALLIAGES FERREUX OU NON FERREUX; TRAITEMENT DES ALLIAGES OU DES MÉTAUX NON FERREUX
CALLIAGES
19Alliages à base de nickel ou de cobalt, seuls ou ensemble
07à base de cobalt
C22C 45/02 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
22MÉTALLURGIE; ALLIAGES FERREUX OU NON FERREUX; TRAITEMENT DES ALLIAGES OU DES MÉTAUX NON FERREUX
CALLIAGES
45Alliages amorphes
02avec le fer comme constituant majeur
C22C 45/10 2006.01
CCHIMIE; MÉTALLURGIE
22MÉTALLURGIE; ALLIAGES FERREUX OU NON FERREUX; TRAITEMENT DES ALLIAGES OU DES MÉTAUX NON FERREUX
CALLIAGES
45Alliages amorphes
10avec le molybdène, le tungstène, le niobium, le tantale, le titane ou le zirconium comme constituant majeur
CPC
C22C 16/00
CCHEMISTRY; METALLURGY
22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
CALLOYS
16Alloys based on zirconium
C22C 19/07
CCHEMISTRY; METALLURGY
22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
CALLOYS
19Alloys based on nickel or cobalt
07based on cobalt
C22C 21/10
CCHEMISTRY; METALLURGY
22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
CALLOYS
21Alloys based on aluminium
10with zinc as the next major constituent
C22C 45/02
CCHEMISTRY; METALLURGY
22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
CALLOYS
45Amorphous alloys
02with iron as the major constituent
C22C 45/10
CCHEMISTRY; METALLURGY
22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
CALLOYS
45Amorphous alloys
10with molybdenum, tungsten, niobium, tantalum, titanium, or zirconium ; or Hf; as the major constituent
C22C 5/00
CCHEMISTRY; METALLURGY
22METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
CALLOYS
5Alloys based on noble metals
Déposants
  • 株式会社日鉱マテリアルズ NIKKO MATERIALS CO., LTD. [JP]/[JP] (AllExceptUS)
  • 井上 明久 INOUE, Akihisa [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 木村 久道 KIMURA, Hisamichi [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 笹森 賢一郎 SASAMORI, Kenichiro [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 矢作 政隆 YAHAGI, Masataka [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 中村 篤志 NAKAMURA, Atsushi [JP]/[JP] (UsOnly)
  • 高橋 秀行 TAKAHASHI, Hideyuki [JP]/[JP] (UsOnly)
Inventeurs
  • 井上 明久 INOUE, Akihisa
  • 木村 久道 KIMURA, Hisamichi
  • 笹森 賢一郎 SASAMORI, Kenichiro
  • 矢作 政隆 YAHAGI, Masataka
  • 中村 篤志 NAKAMURA, Atsushi
  • 高橋 秀行 TAKAHASHI, Hideyuki
Mandataires
  • 小越 勇 OGOSHI, Isamu
Données relatives à la priorité
2003-28687605.08.2003JP
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) SPUTTERING TARGET AND METHOD FOR PRODUCTION THEREOF
(FR) CIBLE DE PULVERISATION ET PROCEDE DE PRODUCTION CORRESPONDANT
(JA) スパッタリングターゲット及びその製造方法
Abrégé
(EN)
A sintered sputtering target which has a structure having an average crystallite size of 1 nm to 50 nm and preferably comprises an alloy having three or more elements and containing, as a main component, at least one element selected from among Zr, Pd, Cu, Co, Fe, Ti, Mg, Sr, Y, Nb, Mo, Tc, Ru, Rh, Ag, Cd, In, Sn, Sb, Te and a rare earth metal; and a method for producing said target, which comprises sintering an atomized powder. The target and the method provide a target having an extremely fine and uniform structure having a high density and being produced by the sintering method, in place of a conventional bulk metal glass produced by the rapid cooling of a molten metal, which has a coarse crystal structure and requires a high cost for its production.
(FR)
La présente invention concerne une cible de pulvérisation frittée qui possède une structure ayant une dimension moyenne de cristallite comprise 1 et 50 nm et qui comporte de préférence un alliage contenant au moins trois éléments et ayant, en tant que composant principal, au moins un élément sélectionné parmi Zr, Pd, Cu, Co, Fe, Ti, Mg, Sr, Y, Nb, Mo, Tc, Ru, Rh, Ag, Cd, In, Sn, Sb, Te et un métal des terres rares ; l'invention se rapporte également à un procédé de production de cette cible qui consiste à fritter une poudre atomisée. La cible et le procédé de l'invention permettent de disposer d'une cible ayant une structure uniforme et extrêmement fine présentant une densité élevée et pouvant être produite selon le procédé de frittage, à la place d'un verre classique à base de métal en vrac produit par le refroidissement rapide d'un métal fondu, qui possède une structure cristalline grossière et est associée à des coûts élevés de production.
(JA)
平均結晶子サイズが1nm~50nmの組織を備えている焼結体パッタリングターゲット、特に3元系以上の合金からなり、Zr、Pd、Cu、Co、Fe、Ti、Mg、Sr、Y、Nb、Mo、Tc、Ru、Rh、Ag、Cd、In、Sn、Sb、Te、希土類金属から選択した少なくとも1元素を主成分とする焼結体スパッタリングターゲットに関し、該ターゲットを、アトマイズ粉を焼結することによって製造する。結晶組機が粗くコスト高となる溶湯金属の急冷によるバルク金属ガラスに替えて、焼結法による高密度の極微細で均一な組織を有するターゲットを得る。
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