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1. (WO2005012381) PROCEDE DE PRODUCTION DE MOUSSE MOULEE DE POLYURETHANE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/012381    N° de la demande internationale :    PCT/JP2004/011102
Date de publication : 10.02.2005 Date de dépôt international : 28.07.2004
CIB :
C08G 18/48 (2006.01)
Déposants : BRIDGESTONE CORPORATION [JP/JP]; 10-1, Kyobashi 1-chome Chuo-ku, Tokyo 1040031 (JP) (Tous Sauf US).
FUJITA, Taikyu [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : FUJITA, Taikyu; (JP)
Mandataire : KOJIMA, Takashi; GINZA OHTSUKA Bldg.2F 16-12, Ginza 2-chome Chuo-ku, Tokyo 1040061 (JP)
Données relatives à la priorité :
2003-205351 01.08.2003 JP
Titre (EN) METHOD OF PRODUCING POLYURETHANE MOLD FOAM AND POLYURETHANE MOLD FOAM
(FR) PROCEDE DE PRODUCTION DE MOUSSE MOULEE DE POLYURETHANE
(JA) ポリウレタンモールドフォームの製造方法及びポリウレタンモールドフォーム
Abrégé : front page image
(EN)A method of producing polyurethane mold foam and polyurethane mold foam produced by the method are provided. With the method, the foam is formed by pouring a polyurethane foam material into a cavity shaped in a mold and foaming the material. A polyurethane foam material used as the foam material has an aspect ratio of 1-2.5 for a cell formed in foam obtained by free foaming.
(FR)L'invention concerne un procédé de production de mousse moulée, ainsi qu'une mousse moulée de polyuréthane obtenue selon ledit procédé. Le procédé de formation de la mousse consiste à introduire un matériau en mousse de polyuréthane dans une cavité formée dans un moule, puis à faire mousser le matériau. Le matériau en mousse de polyuréthane utilisé présente un facteur de forme de 1 à 2,5 pour une cellule formée dans une mousse obtenue par moussage libre.
(JA)ポリウレタンフォーム材料をモールドに形成されたキャビティ内に注入し、これを発泡させて成形するポリウレタンモールドフォームの製造方法であって、ポリウレタンフォーム材料として、フリー発泡させて得られるフォーム内に形成されるセルのアスペクト比が1~2.5であるポリウレタンフォーム材料を用いることを特徴とするポリウレタンモールドフォームの製造方法及びその方法により得られたポリウレタンモールドフォームを提供する。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)