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1. (WO2005012174) CARBURE DE TANTALE, PROCEDE D'OBTENTION DE CARBURE DE TANTALE, CABLAGE ET ELECTRODE EN CARBURE DE TANTALE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/012174    N° de la demande internationale :    PCT/JP2004/011325
Date de publication : 10.02.2005 Date de dépôt international : 30.07.2004
CIB :
C23C 8/02 (2006.01), C23C 8/20 (2006.01)
Déposants : THE NEW INDUSTRY RESEARCH ORGANIZATION [JP/JP]; 1-5-2, Minatojima-minamimachi Chuo-ku Kobe-shi, Hyogo 6500047 (JP) (Tous Sauf US).
KANEKO, Tadaaki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
ASAOKA, Yasushi [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
SANO, Naokatsu [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : KANEKO, Tadaaki; (JP).
ASAOKA, Yasushi; (JP).
SANO, Naokatsu; (JP)
Mandataire : KAJI, Yoshiyuki; c/o Kaji, Suhara & Associates Recruit Shin Osaka Bldg. 14-22, Nishinakajima 5-chome Yodogawa-ku Osaka-shi, Osaka 532-0011 (JP)
Données relatives à la priorité :
2003-284708 01.08.2003 JP
Titre (EN) TANTALUM CARBIDE, METHOD FOR PRODUCING TANTALUM CARBIDE, TANTALUM CARBIDE WIRING AND TANTALUM CARBIDE ELECTRODE
(FR) CARBURE DE TANTALE, PROCEDE D'OBTENTION DE CARBURE DE TANTALE, CABLAGE ET ELECTRODE EN CARBURE DE TANTALE
(JA) タンタルの炭化物、タンタルの炭化物の製造方法、タンタルの炭化物配線、タンタルの炭化物電極
Abrégé : front page image
(EN)Disclosed is a method for forming a tantalum carbide having a certain shape in a simple manner. This method also enables to form a tantalum carbide having a uniform thickness even when the tantalum carbide is formed on the surface of an article, and such a tantalum carbide will not be separated by the thermal history. Also disclosed are a tantalum carbide, tantalum carbide wiring and tantalum carbide electrode obtained by such a method. The method for forming a tantalum carbide is characterized as follows: tantalum or a tantalum alloy is placed in a vacuum heat treating furnace and heat treatment is conducted under the conditions where a natural oxide film, i.e. Ta2O5, formed on the surface of the tantalum or tantalum alloy is sublimed; and after removing the Ta2O5 film, a carbon source is introduced into the vacuum heat treating furnace so that a tantalum carbide is formed on the surface of the tantalum or tantalum alloy.
(FR)Cette invention concerne un procédé simple permettant d'obtenir un carbure de tantale selon une certaine forme, et notamment un carbure de tantale d'une certaine épaisseur lorsque ledit carbure est formé sur la surface d'un article, sans risque de séparation ultérieure. L'invention concerne également un carbure de tantale ainsi qu'un câblage et une électrode en carbure de tantale par ce procédé. Ledit procédé se caractérise comme suit: on place du tantale ou un alliage de tantale dans un four de traitement sous vide et l'on procède à un traitement thermique dans des conditions telles qu'un filme d'oxyde naturel, par exemple de Ta2O5 formé sur la surface de tantale ou d'alliage de tantale, se trouve sublimé ; après retrait du film de Ta2O5, on introduit une source de carbone dans le four de traitement sous vide de sorte qu'un carbure de tantale se forme sur la surface du tantale ou de l'alliage de tantale.
(JA)簡易な方法で、所定の形状のタンタルの炭化物を形成することが可能であり、また、表面にタンタルの炭化物を被覆する場合であっても、均一な厚みのタンタルの炭化物を形成することができるとともに、熱履歴によっても剥離することのないタンタルの炭化物の製造方法及びその製造方法により得られるタンタルの炭化物並びにタンタルの炭化物配線及びタンタルの炭化物電極を提供する。タンタル若しくはタンタル合金を真空熱処理炉内に設置し、前記タンタル若しくはタンタル合金表面に形成されている自然酸化膜であるTa2O5が昇華する条件下で熱処理を行い、前記Ta2O5を除去した後、前記真空熱処理炉内に炭素源を導入して熱処理を行い、前記タンタル若しくはタンタル合金表面にタンタルの炭化物を形成することを特徴とする。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)