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1. (WO2005010935) PROCEDE ET SYSTEME DE FILTRAGE ELECTRONIQUE SPATIAL DE SIGNAUX OPTIQUES DE REFLECTOMETRE SPECTRAL
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/010935    N° de la demande internationale :    PCT/US2004/020666
Date de publication : 03.02.2005 Date de dépôt international : 24.06.2004
CIB :
H01L 21/00 (2006.01), H01L 21/302 (2006.01), H01L 21/3065 (2006.01), H01L 21/461 (2006.01)
Déposants : LAM RESEARCH CORPORATION [US/US]; 4650 Cushing Parkway, Fremont, CA 94538 (US) (Tous Sauf US).
PERRY, Andrew [AU/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : PERRY, Andrew; (US)
Mandataire : VON WOHLD, Rick; Martine & Penilla, LLP, 710 Lakeway Drive, Suite 170, Sunnyvale, CA 94085 (US)
Données relatives à la priorité :
10/625,243 22.07.2003 US
Titre (EN) METHOD AND SYSTEM FOR ELECTRONIC SPATIAL FILTERING OF SPECTRAL REFLECTOMETER OPTICAL SIGNALS
(FR) PROCEDE ET SYSTEME DE FILTRAGE ELECTRONIQUE SPATIAL DE SIGNAUX OPTIQUES DE REFLECTOMETRE SPECTRAL
Abrégé : front page image
(EN)A method for determining endpoint of plasma processing of a semiconductor wafer includes providing a light source, and providing a lens system to collimate and align light from the light source to an active surface of the semiconductor wafer. A plurality of light detector fibers are interleaved among light source fibers which transmit light from the light source to the lens system. Reflected light from the active surface of the semiconductor wafer is received by a plurality of light detector fibers and provided to an imaging spectrometer. The received reflected light is analyzed by the imaging spectrometer, and matched to a model optical signal. The matched optical signal is selected to determine endpoint or other state of the plasma processing.
(FR)L'invention concerne un procédé permettant de déterminer le point limite du traitement par plasma d'une tranche de semi-conducteur, qui comporte les étapes consistant à prévoir une source lumineuse ainsi qu'un système de lentilles pour collimater et aligner sur une surface active de la tranche de semi-conducteur la lumière provenant de la source lumineuse ; entrelacer une pluralité de fibres de détection de lumière dans les fibres de la source lumineuse qui transmettent la lumière, de la source lumineuse vers le système de lentilles ; faire en sorte que la lumière réfléchie par la surface active de la tranche de semi-conducteur soit reçue par une pluralité de fibres de détection de lumière et transmise à un spectromètre d'imagerie ; faire analyser par le spectromètre la lumière réfléchie reçue et la mettre en correspondance avec un signal optique modèle ; sélectionner le signal optique modèle pour déterminer le point limite ou un autre état du traitement par plasma.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)