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1. (WO2005010919) ANODE COULISSANTE POUR SOURCE DE PULVERISATION A MAGNETRON
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/010919    N° de la demande internationale :    PCT/CH2004/000472
Date de publication : 03.02.2005 Date de dépôt international : 26.07.2004
CIB :
H01J 37/34 (2006.01)
Déposants : UNAXIS BALZERS AKTIENGESELLSCHAFT [LI/LI]; LI-9496 Balzers (LI) (Tous Sauf US).
HAAG, Walter [DE/CH]; (CH) (US Seulement).
GRUENENFELDER, Pius [CH/CH]; (CH) (US Seulement)
Inventeurs : HAAG, Walter; (CH).
GRUENENFELDER, Pius; (CH)
Mandataire : TROESCH, Jacques; Troesch Scheidegger Werner AG, Schwäntenmos 14, CH-8126 Zumikon (CH)
Données relatives à la priorité :
60/490,201 25.07.2003 US
Titre (EN) SLIDING ANODE FOR A MAGNETRON SPUTTERING SOURCE
(FR) ANODE COULISSANTE POUR SOURCE DE PULVERISATION A MAGNETRON
Abrégé : front page image
(EN)A magnetron sputtering source includes a plurality of electrodes (12) and a switching circuit (14). The switching circuit (14) sequentially connects each of the plurality of electrodes (12) to a ground reference, making it anodic, while connecting the remaining of the plurality of electrodes as cathodes. A method of operating the magnetron sputtering source includes steps of: providing a plurality of target arrangements; causing each of the plurality of target arrangements to act as a cathode; and sequentially causing each of the plurality of cathodes to temporarily act as an anode.
(FR)L'invention concerne une source de pulvérisation à magnétron comprenant une pluralité d'électrodes (12) et un circuit de commutation (14). Ledit circuit (14) raccorde de manière séquentielle chaque électrode (12) de la pluralité d'électrodes à une référence de terre, ce qui les rend anodiques. Ce circuit raccorde en même temps les électrodes restantes comme des cathodes. L'invention concerne également un procédé d'utilisation de ladite source. Ce procédé consiste : à obtenir une pluralité d'agencements cibles ; à faire en sorte que chaque agencement cible de la pluralité d'agencements cibles agisse en tant que cathode ; et à faire en sorte, de manière séquentielle, que chaque cathode de la pluralité de cathodes agisse temporairement en tant qu'anode.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)