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1. (WO2005010895) COMPOSITION LIQUIDE POUR PRODUIRE UN FILM MINCE FERROELECTRIQUE ET PROCEDE POUR PRODUIRE UN FILM MINCE FERROELECTRIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/010895    N° de la demande internationale :    PCT/JP2004/010636
Date de publication : 03.02.2005 Date de dépôt international : 26.07.2004
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    30.11.2004    
CIB :
C01G 23/00 (2006.01), C01G 29/00 (2006.01), H01L 21/316 (2006.01)
Déposants : ASAHI GLASS COMPANY, LIMITED [JP/JP]; 12-1, Yurakucho 1-chome, Chiyoda-ku, Tokyo 1008405 (JP) (Tous Sauf US).
SUNAHARA, Kazuo [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
TOMONAGA, Hiroyuki [JP/JP]; (JP) (US Seulement).
BEPPU, Yoshihisa [JP/JP]; (JP) (US Seulement)
Inventeurs : SUNAHARA, Kazuo; (JP).
TOMONAGA, Hiroyuki; (JP).
BEPPU, Yoshihisa; (JP)
Mandataire : SENMYO, Kenji; Torimoto Kogyo Bldg. 38, Kanda-Higashimatsushitacho Chiyoda-ku, Tokyo 101-0042 (JP)
Données relatives à la priorité :
2003-280901 28.07.2003 JP
Titre (EN) LIQUID COMPOSITION FOR FERROELECTRIC THIN FILM FORMATION AND PROCESS FOR PRODUCING FERROELECTRIC THIN FILM
(FR) COMPOSITION LIQUIDE POUR PRODUIRE UN FILM MINCE FERROELECTRIQUE ET PROCEDE POUR PRODUIRE UN FILM MINCE FERROELECTRIQUE
(JA) 強誘電体薄膜形成用液状組成物および強誘電体薄膜の製造方法
Abrégé : front page image
(EN)A liquid composition for thin film formation from which a ferroelectric thin film of excellent properties can be produced even through sintering at low temperature and a process for producing a ferroelectric thin film from the liquid composition. In particular, use is made of a liquid composition for ferroelectric thin film formation characterized in that crystalline ferroelectric oxide particles of 100 nm or less average primary particle diameter represented by the general formula (Bi2O2)2+(Bim-1TimO3.5m-0.5)2- [m is an integer of 1 to 5] or the general formula (Bi2O2)2+(Am-1TimO3.5m-0.5)2- [A represents Bi3+ and La3+ provided that the ratio of La3+/Bi3+ is in the range of 0.05 to 0.5, and m is an integer of 1 to 5] are dispersed in a liquid medium and that a soluble metal compound capable of forming a ferroelectric oxide when heated is dissolved therein.
(FR)La présente invention concerne une composition liquide permettant de produire un film mince ferroélectrique présentant d'excellentes propriétés, même par frittage à basse température, ainsi qu'un procédé pour produire un film mince ferroélectrique à partir de ladite composition liquide. Cette invention est caractérisée en ce que des particules d'oxyde ferroélectrique cristallin qui présentent un diamètre particulaire primaire moyen inférieur ou égal à 100 nm, représentées par la formule générale (Bi2O2)2+(Bim-1TimO3,5m-0,5)2- [m étant un entier compris entre 1 et 5] ou par la formule générale (Bi2O2)2+(Am-1TimO3,5m-0,5)2- [A représentant Bi3+ et La3+, sous réserve que le rapport La3+/Bi3+ se trouve entre 0,05 et 0,5, et m étant un entier compris entre 1 et 5] sont dispersées dans un milieu liquide et en ce qu'un composé métallique soluble pouvant former un oxyde ferroélectrique lorsqu'il est chauffé est dissous dans ce milieu.
(JA) 低温度での焼成でも優れた特性の強誘電体薄膜を作製可能な薄膜形成用液状組成物、およびそれを用いた強誘電体薄膜の製造方法を提供する。液状媒体中に、一般式(Bi2+(Bim−1Ti3.5m−0.52−[mは1~5の整数である。]又は一般式(Bi2+(Am−1Ti3.5m−0.52−[AはBi3+およびLa3+であり、La3+/Bi3+の比が0.05~0.5であり、mは1~5の整数である。]で表される、平均一次粒子径が100nm以下の結晶性強誘電体酸化物粒子が分散し、加熱により強誘電体酸化物を形成する可溶性金属化合物が溶解したことを特徴とする強誘電体薄膜形成用液状組成物を用いる。
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : japonais (JA)
Langue de dépôt : japonais (JA)