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1. (WO2005010566) MICROMIROIR DANS LEQUEL L'ESPACE ENTRE LA CHARNIERE ET LA PLAQUE DE MIROIR EST REDUIT
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/010566    N° de la demande internationale :    PCT/US2004/023139
Date de publication : 03.02.2005 Date de dépôt international : 19.07.2004
CIB :
G02B 26/00 (2006.01), G02B 26/08 (2006.01), G02F 1/29 (2006.01)
Déposants : REFLECTIVITY, INC. [US/US]; 350 Potrero Avenue, Sunnyvale, CA 94085 (US) (Tous Sauf US).
PATEL, Satyadev, R. [US/US]; (US) (US Seulement).
HUIBERS, Andrew, G. [US/US]; (US) (US Seulement)
Inventeurs : PATEL, Satyadev, R.; (US).
HUIBERS, Andrew, G.; (US)
Mandataire : MUIR, Gregory, R.; Reflectivity, Inc., 350 Potrero Avenue, Sunnyvale, CA 94085 (US)
Données relatives à la priorité :
10/627,303 24.07.2003 US
Titre (EN) A MICROMIRROR HAVING REDUCED SPACE BETWEEN HINGE AND MIRROR PLATE OF THE MICROMIRROR
(FR) MICROMIROIR DANS LEQUEL L'ESPACE ENTRE LA CHARNIERE ET LA PLAQUE DE MIROIR EST REDUIT
Abrégé : front page image
(EN)A spatial light modulator is disclosed, along with a method for making such a modulator that comprises an array of micromirror devices. The center-to-center distance and the gap between adjacent micromirror devices are determined corresponding to the light source being used so as to optimize optical efficiency and performance quality. The micromirror device comprises a hinge support formed on a substrate and a hinge that is held by the hinge support. A mirror plate is connected to the hinge via a contact, and the distance between the mirror plate and the hinge is determined according to desired maximum rotation angle of the mirror plate, the optimum gap and pitch between the adjacent micromirrors. In a method of fabricating such spatial light modulator, one sacrificial layer is deposited on a substrate followed by forming the mirror plates, and another sacrificial layer is deposited on the mirror plates followed by forming the hinge supports. The two sacrificial layers are removed via the small gap between adjacent mirror devices with spontaneous vapor phase chemical etchant. Also disclosed is a projection system that comprises such a spatial light modulator, as well as a light source, condensing optics, wherein light from the light source is focused onto the array of micromirrors, projection optics for projecting light selectively reflected from the array of micromirrors onto a target, and a controller for selectively actuating the micromirrors in the array.
(FR)L'invention concerne un modulateur spatial de lumière, ainsi qu'un procédé de fabrication d'un tel modulateur, lequel comprend un ensemble de dispositifs de micromiroirs. La distance de centre à centre et l'intervalle entre des dispositifs de micromiroirs adjacents sont déterminés en fonction de la source lumineuse utilisée de façon à optimiser l'efficacité optique et la qualité de performance. Ce dispositif de micromiroir comprend un support de charnière formé sur un substrat et une charnière maintenue par ce support. Une plaque de miroir est reliée à la charnière par l'intermédiaire d'un contact, et la distance entre la plaque de miroir et la charnière est déterminée en fonction d'un angle de rotation maximum voulu de la plaque de miroir, l'intervalle optimal et l'inclinaison entre les micromiroirs adjacents. Dans un procédé de fabrication d'un tel modulateur spatial de lumière, une couche sacrificielle est déposée sur un substrat, puis les plaques de miroir sont formées, et une autre couche sacrificielle est déposée sur les plaques de miroir, puis les supports de charnières sont formés. Les deux couches sacrificielles sont éliminées à travers le petit intervalle adjacent aux dispositifs de miroirs, au moyen d'un agent d'attaque chimique en phase vapeur. L'invention concerne également un système de projection comprenant un tel modulateur spatial de lumière, ainsi qu'une sources lumineuse, des éléments optiques de condensation, la lumière provenant de la source lumineuse étant focalisée sur l'ensemble de micromiroirs, des éléments optiques de projection destinés à projeter la lumière réfléchie de façon sélective de l'ensemble de micromiroirs sur une cible, et une unité de commande destinée à actionner de façon sélective ces micromiroirs.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, US, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, NA, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)