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1. (WO2005009679) ANNEAU DE RETENUE A DETENTE POUR APPAREIL DE POLISSAGE CHIMICO-MECANIQUE
Dernières données bibliographiques dont dispose le Bureau international   

N° de publication :    WO/2005/009679    N° de la demande internationale :    PCT/US2004/012633
Date de publication : 03.02.2005 Date de dépôt international : 22.04.2004
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 :    22.04.2005    
CIB :
B24B 37/04 (2006.01)
Déposants : KHUU'S INC., DBA KAMET [US/US]; 153-155 Commercial Street, Sunnyvale, CA 94086 (US) (Tous Sauf US)
Inventeurs : KHUU, Peter; (US)
Mandataire : TANKHILEVICH, Boris, G.; Law Offices of Boris G. Tankhilevich, Suite A, 536 North Civic Drive, Walnut Creek, CA 94597 (US)
Données relatives à la priorité :
10/609,064 27.06.2003 US
Titre (EN) RETAINIING RING WITH TRIGGER FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING APPARATUS
(FR) ANNEAU DE RETENUE A DETENTE POUR APPAREIL DE POLISSAGE CHIMICO-MECANIQUE
Abrégé : front page image
(EN)A retaining ring for chemical mechanical polishing (CMP) apparatus comprising a body of the retaining ring, and a single trigger cavity, or a plurality of trigger cavities. Each trigger cavity formed inside the body of the retaining ring is filed with gas or fluid, and is configured to indicate that thickness of the retaining ring is less than or equal to a predetermined thickness threshold.
(FR)L'invention concerne un anneau de retenue pour appareil de polissage chimico-mécanique (CMP) comprenant un corps de l'anneau de retenue, et une ou plusieurs cavités de détente. Chaque cavité de détente, formée à l'intérieur du corps de l'anneau de retenue, est remplie de gaz ou de fluide et conçue pour indiquer que l'épaisseur de l'anneau de retenue est inférieure ou égale à un seuil d'épaisseur prédéterminé.
États désignés : AE, AG, AL, AM, AT, AU, AZ, BA, BB, BG, BR, BW, BY, BZ, CA, CH, CN, CO, CR, CU, CZ, DE, DK, DM, DZ, EC, EE, EG, ES, FI, GB, GD, GE, GH, GM, HR, HU, ID, IL, IN, IS, JP, KE, KG, KP, KR, KZ, LC, LK, LR, LS, LT, LU, LV, MA, MD, MG, MK, MN, MW, MX, MZ, NA, NI, NO, NZ, OM, PG, PH, PL, PT, RO, RU, SC, SD, SE, SG, SK, SL, SY, TJ, TM, TN, TR, TT, TZ, UA, UG, UZ, VC, VN, YU, ZA, ZM, ZW.
Organisation régionale africaine de la propriété intellectuelle (ARIPO) (BW, GH, GM, KE, LS, MW, MZ, SD, SL, SZ, TZ, UG, ZM, ZW)
Office eurasien des brevets (OEAB) (AM, AZ, BY, KG, KZ, MD, RU, TJ, TM)
Office européen des brevets (OEB) (AT, BE, BG, CH, CY, CZ, DE, DK, EE, ES, FI, FR, GB, GR, HU, IE, IT, LU, MC, NL, PL, PT, RO, SE, SI, SK, TR)
Organisation africaine de la propriété intellectuelle (OAPI) (BF, BJ, CF, CG, CI, CM, GA, GN, GQ, GW, ML, MR, NE, SN, TD, TG).
Langue de publication : anglais (EN)
Langue de dépôt : anglais (EN)