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1. WO2005008764 - NACELLE VERTICALE POUR TRAITEMENT THERMIQUE ET PROCEDE DE PRODUCTION CORRESPONDANT

Numéro de publication WO/2005/008764
Date de publication 27.01.2005
N° de la demande internationale PCT/JP2004/009960
Date du dépôt international 13.07.2004
CIB
H01L 21/673 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
67Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide pendant leur fabrication ou leur traitement; Appareils spécialement adaptés pour la manipulation des plaquettes pendant la fabrication ou le traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou des dispositifs électriques à l'état solide ou de leurs composants
673utilisant des supports spécialement adaptés
CPC
H01L 21/67309
HELECTRICITY
01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
LSEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
21Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
673using specially adapted carriers ; or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
67303Vertical boat type carrier whereby the substrates are horizontally supported, e.g. comprising rod-shaped elements
67309characterized by the substrate support
Déposants
  • 信越半導体株式会社 SHIN-ETSU HANDOTAI CO., LTD. [JP/JP]; 〒1000005 東京都千代田区丸の内1丁目4番2号 Tokyo 4-2, Marunouchi 1-chome Chiyoda-ku, Tokyo 1000005, JP (AllExceptUS)
  • 小林 武史 KOBAYASHI, Takeshi [JP/JP]; JP (UsOnly)
Inventeurs
  • 小林 武史 KOBAYASHI, Takeshi; JP
Mandataires
  • 好宮 幹夫 YOSHIMIYA, Mikio; 〒1110041 東京都台東区元浅草2丁目6番4号上野三生ビル4F Tokyo Uenosansei Bldg. 4F 6-4, Motoasakusa 2-chome Taito-ku, Tokyo 1110041, JP
Données relatives à la priorité
2003-27565716.07.2003JP
2003-30052725.08.2003JP
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) VERTICAL BOAT FOR HEAT TREATMENT, AND METHOD OF PRODUCING THE SAME
(FR) NACELLE VERTICALE POUR TRAITEMENT THERMIQUE ET PROCEDE DE PRODUCTION CORRESPONDANT
(JA) 熱処理用縦型ボート及びその製造方法
Abrégé
(EN)
A vertical boat (10) for heat treatment comprising a top plate (1), a bottom plate (2), a column member fixed between the top plate and the bottom plate, a plurality of grooves (8) formed in the column member, a support section formed between the grooves for horizontally supporting wafer-like treatment subject body, the boat being characterized in that as the column member, two or more column members (3, 4) having an arcuate cross section and having arcuate support sections (6) integrally formed inside as a result of formation of the grooves are cylindrically disposed, and in that the wafer-like treatment subject body is inserted from the grooves in the column members and supported along the peripheral edge of the lower surface by each arcuate support section. This provides a vertical boat for heat treatment which is capable of effectively preventing occurrence of slippage to the wafers or the like being heat treated, low in material cost, and relatively easy to produce.
(FR)
La présente invention concerne une nacelle verticale (10) pour traitement thermique comprenant une plaque supérieure (1), une plaque inférieure (2), un élément de colonne fixé entre la plaque supérieure et la plaque inférieure, une pluralité de rainures (8) formées dans l'élément de colonne, une partie support formée entre les rainures et servant à maintenir horizontalement un corps soumis au traitement de type plaquette. Cette nacelle se caractérise en ce que l'élément de colonne peut comprendre au moins deux éléments de colonne (3, 4) présentant une section transversale arquée, comportant des parties support arquées (6) formées intégralement à l'intérieur à la suite de la formation des rainures et disposés de manière cylindrique, et en ce que le corps soumis au traitement de type plaquette est introduit par les rainures dans les éléments de colonne et maintenu le long du bord périphérique de la surface inférieure par chaque partie support arquée. Cette invention permet d'obtenir une nacelle verticale pour traitement thermique qui est capable d'empêcher efficacement que les plaquettes ou analogues ne glissent pendant leur traitement thermique, qui demande un faible coût matériel et qui est relativement facile à fabriquer.
(JA)
 天板1と、底板2と、該天板と底板の間に固定された支柱部材とを有し、該支柱部材に複数の溝8が形成され、各溝間にウエーハ状の被処理体を水平に支持するための支持部が形成されている熱処理用縦型ボートであって、前記支柱部材として、円弧状の横断面を有し、前記溝が形成されることで内側に円弧状の支持部6が一体的に形成されている支柱部材3,4が2本以上円筒状に配置されており、前記ウエーハ状の被処理体が、前記支柱部材の溝から挿入されて円弧状の各支持部により下面周縁部に沿って支持されるものであることを特徴とする熱処理用縦型ボート10。これにより、熱処理中のウエーハ等にスリップが発生するのを効果的に防ぐことができ、かつ、材料コストが低く、かつ比較的容易に製造することができる熱処理用縦型ボートが提供される。
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