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Paramétrages

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1. WO2005006416 - UNITE DE LIAISON, APPAREIL D'EXPOSITION, ET PROCEDE DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF

Numéro de publication WO/2005/006416
Date de publication 20.01.2005
N° de la demande internationale PCT/JP2004/010059
Date du dépôt international 08.07.2004
CIB
G03F 7/20 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20Exposition; Appareillages à cet effet
CPC
G03F 7/70341
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70216Systems for imaging mask onto workpiece
70341Immersion
G03F 7/70833
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
708Construction of apparatus, e.g. environment, hygiene aspects or materials
70808Construction details, e.g. housing, load-lock, seals, windows for passing light in- and out of apparatus
70833Mounting of optical systems, e.g. mounting of illumination system, projection system or stage systems on base-plate or ground
Déposants
  • 株式会社ニコン NIKON CORPORATION [JP/JP]; 〒100-8331 東京都 千代田区 丸の内3丁目2番3号 Tokyo 2-3, Marunouchi 3-chome Chiyoda-ku, Tokyo 100-8331, JP (AllExceptUS)
  • 小野 一也 ONO, Kazuya [JP/JP]; JP (UsOnly)
  • 柴崎 祐一 SHIBAZAKI, Yuichi [JP/JP]; JP (UsOnly)
Inventeurs
  • 小野 一也 ONO, Kazuya; JP
  • 柴崎 祐一 SHIBAZAKI, Yuichi; JP
Mandataires
  • 志賀 正武 SHIGA, Masatake; 〒104-8453 東京都 中央区 八重洲2丁目3番1号 Tokyo 2-3-1 Yaesu Chuo-ku, Tokyo 104-8453, JP
Données relatives à la priorité
2003-27261509.07.2003JP
2003-28118228.07.2003JP
Langue de publication japonais (JA)
Langue de dépôt japonais (JA)
États désignés
Titre
(EN) LINKING UNIT, EXPOSURE APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING DEVICE
(FR) UNITE DE LIAISON, APPAREIL D'EXPOSITION, ET PROCEDE DE FABRICATION D'UN DISPOSITIF
(JA) 結合装置、露光装置、及びデバイス製造方法
Abrégé
(EN)
An exposure apparatus is disclosed wherein an exposure of a substrate is carried out by filling the space between a projection optical system and the substrate with a liquid and projecting a pattern image onto the substrate through the projection optical system and the liquid. The projection optical system comprises a first group including an optical member which is in contact with the liquid, and a second group which is different from the first group. The first group is supported by a first supporting member, while the second group is separately supported by a second supporting member which is different from the first supporting member.
(FR)
L'invention porte sur un appareil d'exposition dans lequel l'exposition d'un substrat s'effectue après avoir rempli l'espace séparant le système optique de projection du substrat par un liquide, la projection de motifs sur le substrat se faisant ainsi à travers le liquide. Le système optique de projection comporte un premier groupe comprenant un élément optique en contact avec le liquide, et un deuxième groupe différent du premier. Le premier groupe est porté par un premier support et le deuxième groupe est porté séparément par un deuxième support différent du premier.
(JA)
この露光装置は、投影光学系と基板との間を液体で満たし、前記投影光学系と前記液体とを介して前記基板上にパターン像を投影することによって前記基板を露光する露光装置であって、前記投影光学系は、前記液体と接する光学部材を含む第1群と、その第1群とは異なる第2群とを含み、前記第1群は、第1支持部材に支持され、前記第2群は、前記第1支持部材とは異なる第2支持部材に分離して支持される。
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