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1. WO2005006081 - MIROIRS A FACETTES ET PROCEDE DE PRODUCTION DE FACETTES DE MIROIR

Numéro de publication WO/2005/006081
Date de publication 20.01.2005
N° de la demande internationale PCT/EP2004/007478
Date du dépôt international 08.07.2004
CIB
G02B 5/09 2006.01
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
BÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
5Eléments optiques autres que les lentilles
08Miroirs
09Miroirs à facettes multiples ou polygonales
G03F 7/20 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20Exposition; Appareillages à cet effet
CPC
G02B 5/08
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
5Optical elements other than lenses
08Mirrors
G02B 5/09
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
5Optical elements other than lenses
08Mirrors
09Multifaceted or polygonal mirrors ; , e.g. polygonal scanning mirrors; Fresnel mirrors
G03F 7/70075
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70058Mask illumination systems
70075Homogenization of illumination intensity in the mask plane, by using an integrator, e.g. fly's eye lenses, facet mirrors, glass rods, by using a diffusive optical element or by beam deflection
G03F 7/70141
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70058Mask illumination systems
70141Illumination system adjustment, alignment during assembly of illumination system
G03F 7/702
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70058Mask illumination systems
702Reflective illumination, i.e. reflective optical elements other than folding mirrors
G03F 7/70825
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
708Construction of apparatus, e.g. environment, hygiene aspects or materials
70808Construction details, e.g. housing, load-lock, seals, windows for passing light in- and out of apparatus
70825Mounting of individual elements, e.g. mounts, holders or supports
Déposants
  • CARL-ZEISS SMT AG [DE/DE]; Carl-Zeiss-Strasse 22 73447 Oberkochen, DE (AllExceptUS)
  • SEIFERT, Andreas [DE/DE]; DE (UsOnly)
  • MELZER, Frank [DE/DE]; DE (UsOnly)
  • HEISLER, Andreas [DE/DE]; DE (UsOnly)
  • MANN, Heinz [DE/DE]; DE (UsOnly)
  • ROMEYN, Gerhard [DE/DE]; DE (UsOnly)
Inventeurs
  • SEIFERT, Andreas; DE
  • MELZER, Frank; DE
  • HEISLER, Andreas; DE
  • MANN, Heinz; DE
  • ROMEYN, Gerhard; DE
Mandataires
  • LORENZ, Werner; Alte Ulmer Strasse 2 89522 Heidenheim, DE
Données relatives à la priorité
60/485,75909.07.2003US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) FACET MIRRORS AND A METHOD FOR PRODUCING MIRROR FACETS
(FR) MIROIRS A FACETTES ET PROCEDE DE PRODUCTION DE FACETTES DE MIROIR
Abrégé
(EN)
In a method for producing mirror facets (1) for facet mirrors in illuminating devices or projection exposure machines in microlithography by using radiation in the extreme ultraviolet range, individual tilting angles are recessed into an optical surface (2) of the mirror facet (1), preferably a surface with tilting angles relative to a reference surface of the mirror facet (1) is machined into or on said optical surface.
(FR)
La présente invention a trait à un procédé de production de facettes de miroir (1) pour des miroirs à facettes dans des dispositifs d'éclairage ou des machines d'exposition de projection en microlithographie au moyen de rayonnement dans la gamme d'ultraviolet extrême, comprenant l'entaillage d'angles d'inclinaison individuels dans une surface optique (2) d'une facette de miroir (1), de préférence l'usinage d'une surface avec des angles d'inclinaison par rapport à une surface de référence de la facette de miroir (1) dans ou sur ladite surface optique.
Également publié en tant que
US2007019310
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