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Paramétrages

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1. WO2005006026 - UTILISATION DE FLUIDES SPECIFIES ISOTOPIQUEMENT COMME ELEMENTS OPTIQUES

Numéro de publication WO/2005/006026
Date de publication 20.01.2005
N° de la demande internationale PCT/US2004/021159
Date du dépôt international 30.06.2004
CIB
G03F 7/20 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20Exposition; Appareillages à cet effet
CPC
G02B 1/06
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
1Optical elements characterised by the material of which they are made
06made of fluids in transparent cells
G02B 21/33
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
21Microscopes
33Immersion oils ; , or microscope systems or objectives for use with immersion fluids
G02B 3/12
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
3Simple or compound lenses
12Fluid-filled or evacuated lenses
G03F 7/70241
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70216Systems for imaging mask onto workpiece
70241Optical aspects of refractive systems
G03F 7/70341
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70216Systems for imaging mask onto workpiece
70341Immersion
G03F 7/70958
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
708Construction of apparatus, e.g. environment, hygiene aspects or materials
7095Materials, e.g. materials for housing, stage or other support having particular properties, e.g. weight, strength, conductivity, thermal expansion coefficient
70958Optical materials and coatings, e.g. with particular transmittance, reflectance
Déposants
  • NIKON CORPORATION [JP/JP]; 2-3, Marunouchi 3-chome Chiyoda-ku Tokyo 100-8331, JP (AllExceptUS)
  • SOGARD, Michael [US/US]; US (UsOnly)
Inventeurs
  • SOGARD, Michael; US
Mandataires
  • COSTANTINO, Mario, A.; Oliff & Berridge, PLC P.O. Box 19928 Alexandria, VA 22320, US
Données relatives à la priorité
60/484,27601.07.2003US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) USING ISOTOPICALLY SPECIFIED FLUIDS AS OPTICAL ELEMENTS
(FR) UTILISATION DE FLUIDES SPECIFIES ISOTOPIQUEMENT COMME ELEMENTS OPTIQUES
Abrégé
(EN)
Embodiments of the present invention are directed to fluidic optical elements (30) and lithographic systems using isotopically specified fluids (32) for processing light passing therethrough. The isotopic composition of the fluid may be adjusted to vary the optical properties. The properties of the isotopically specified fluid may be monitored and adjusted to obtain the desired optical characteristics of the fluidic optical element. In one embodiment, a method of optically processing light comprises directing light through an optical element (34) which includes an isotopically specified fluid disposed in a confined space. The isotopically specified fluid is selected to provide a preset desired effect on the light directed therethrough for optically processing the light.
(FR)
Des modes de réalisation de la présente invention concernent des éléments optiques fluidiques et des systèmes utilisant des fluides spécifiés isotopiquement destinés à traiter une lumière les traversant. La composition isotopique du fluide peut être réglée en vue d'une modification des propriétés optiques. Les propriétés du fluide spécifié isotopiquement peuvent être surveillées et réglées en vue de l'obtention des caractéristiques optiques souhaitées de l'élément optique fluidique. Dans un mode de réalisation, un procédé de traitement optique de lumière consiste à diriger une lumière à travers un élément optique comprenant un fluide spécifié isotopiquement disposé dans un espace confiné. Le fluide spécifié isotopiquement est sélectionné en vue de l'obtention d'un effet souhaité prédéfini sur la lumière dirigée à travers l'élément, d'où le traitement optique de cette lumière.
Également publié en tant que
US11311247
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