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Paramétrages

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1. WO2005003862 - DISPOSITIF POUR L'ANALYSE, SPECIFIQUE QUANT A LA POLARISATION, D'UN SYSTEME OPTIQUE

Numéro de publication WO/2005/003862
Date de publication 13.01.2005
N° de la demande internationale PCT/EP2003/007203
Date du dépôt international 05.07.2003
CIB
G01J 4/04 2006.01
GPHYSIQUE
01MÉTROLOGIE; TESTS
JMESURE DE L'INTENSITÉ, DE LA VITESSE, DU SPECTRE, DE LA POLARISATION, DE LA PHASE OU DES CARACTÉRISTIQUES D'IMPULSIONS DE LUMIÈRE INFRAROUGE, VISIBLE OU ULTRAVIOLETTE; COLORIMÉTRIE; PYROMÉTRIE DES RADIATIONS
4Mesure de la polarisation de la lumière
04Polarimètres utilisant des moyens de détection électriques
G02B 5/18 2006.01
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
BÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
5Eléments optiques autres que les lentilles
18Grilles de diffraction
G02B 27/44 2006.01
GPHYSIQUE
02OPTIQUE
BÉLÉMENTS, SYSTÈMES OU APPAREILS OPTIQUES
27Systèmes ou appareils optiques non prévus dans aucun des groupes G02B1/-G02B26/117
42Optique de diffraction
44Systèmes à réseaux; Réseaux zonés
G03F 7/20 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
20Exposition; Appareillages à cet effet
CPC
G01J 4/04
GPHYSICS
01MEASURING; TESTING
JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRA-RED, VISIBLE OR ULTRA-VIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
4Measuring polarisation of light
04Polarimeters using electric detection means
G02B 27/4222
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
27Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
42Diffraction optics ; , i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect
4205having a diffractive optical element [DOE] contributing to image formation, e.g. whereby modulation transfer function MTF or optical aberrations are relevant
4222in projection exposure systems, e.g. photolithographic systems
G02B 27/4255
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
27Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
42Diffraction optics ; , i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect
4233having a diffractive element [DOE] contributing to a non-imaging application
4255for alignment or positioning purposes
G02B 27/4261
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
27Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
42Diffraction optics ; , i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect
4261having a diffractive element with major polarization dependent properties
G02B 27/4277
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
27Optical systems or apparatus not provided for by any of the groups G02B1/00 - G02B26/00, G02B30/00
42Diffraction optics ; , i.e. systems including a diffractive element being designed for providing a diffractive effect
4272having plural diffractive elements positioned sequentially along the optical path
4277being separated by an air space
G02B 5/1809
GPHYSICS
02OPTICS
BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS
5Optical elements other than lenses
18Diffraction gratings
1809with pitch less than or comparable to the wavelength
Déposants
  • CARL ZEISS SMT AG [DE/DE]; Carl-Zeiss-Strasse 22 73447 Oberkochen, DE (AllExceptUS)
  • WEGMANN, Ulrich [DE/DE]; DE (UsOnly)
  • MENGEL, Markus [DE/DE]; DE (UsOnly)
Inventeurs
  • WEGMANN, Ulrich; DE
  • MENGEL, Markus; DE
Mandataires
  • RUFF, WILHELM, BEIER, DAUSTER & PARTNER; Kronenstrasse 30 70174 Stuttgart, DE
Données relatives à la priorité
Langue de publication allemand (DE)
Langue de dépôt allemand (DE)
États désignés
Titre
(DE) VORRICHTUNG ZUR POLARISATIONSSPEZIFISCHEN UNTERSUCHUNG EINES OPTISCHEN SYSTEMS
(EN) DEVICE FOR THE POLARIZATION-SPECIFIC EXAMINATION OF AN OPTICAL SYSTEM
(FR) DISPOSITIF POUR L'ANALYSE, SPECIFIQUE QUANT A LA POLARISATION, D'UN SYSTEME OPTIQUE
Abrégé
(DE)
Die Erfindung bezieht sich auf eine Vorrichtung zur polarisationsspezifischen Untersuchung eines optischen Systems mit einem Detektorteil, der Polarisationsdetektormittel zur Erfassung des Austritts-Polarisationszustands von aus dem optischen System austretender Strahlung (6) aufweist. Erfindungsgemäß beinhalten die Polarisationsdetektormittel eine polarisierende Gitterstruktur (4). Verwendung z.B. zur Bestimmung der Beeinflussung des Polarisationszustands von UV-Strahlung durch ein Mikrolithographie-Projektionsobjektiv.
(EN)
The invention relates to a device for the polarization-specific examination of an optical system, comprising a detector element that is provided with polarization detection means for detecting the exit polarization state of radiation (6) emerging from an optical system. According to the invention, the polarization detection means comprises a polarizing grid structure (4). The inventive device is, e.g., used to determine the influence of the polarization state of UV radiation by a microlithography projection lens.
(FR)
L'invention concerne un dispositif servant à l'analyse, spécifique quant à la polarisation, d'un système optique et comprenant une partie détecteur qui présente des moyens de détection de polarisation pour la détection de l'état de polarisation de sortie du rayonnement (6) quittant le système optique. Selon l'invention, les moyens de détection de polarisation contiennent une structure réticulaire polarisante (4). Le dispositif selon l'invention peut, par exemple, être utilisé pour déterminer l'influence de l'état de polarisation de rayonnement ultraviolet par un objectif de projection microlithographique.
Également publié en tant que
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