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Paramétrages

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1. WO2005001914 - ENSEMBLE BIDIMENSIONNEL D'OUVERTURES NANO/MICRO A MODULATION DE LA LUMIERE ET SYSTEME D'ENREGISTREMENT ULTRA-RAPIDE DE NANOMOTIFS UTILISE AVEC LEDIT ENSEMBLE

Numéro de publication WO/2005/001914
Date de publication 06.01.2005
N° de la demande internationale PCT/KR2003/001387
Date du dépôt international 14.07.2003
Demande présentée en vertu du Chapitre 2 06.01.2005
CIB
H01L 21/027 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
02Fabrication ou traitement des dispositifs à semi-conducteurs ou de leurs parties constitutives
027Fabrication de masques sur des corps semi-conducteurs pour traitement photolithographique ultérieur, non prévue dans le groupe H01L21/18 ou H01L21/34187
CPC
G03F 7/70275
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70216Systems for imaging mask onto workpiece
70275Multiple projection paths, array of projection systems, microlens projection systems, tandem projection systems
G03F 7/70291
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
70Exposure apparatus for microlithography
70216Systems for imaging mask onto workpiece
70283Masks or their effects on the imaging process, e.g. Fourier masks, greyscale masks, holographic masks, phase shift masks, phasemasks, lenticular masks, multiple masks, tilted masks, tandem masks
70291Addressable masks
Déposants
  • YONSEI UNIVERSITY [KR/KR]; 134 Shinchon-dong Seodaemun-gu Seoul 120-749, KR (AllExceptUS)
  • HAHN, Jae Won [KR/KR]; KR
Inventeurs
  • HAHN, Jae Won; KR
Mandataires
  • CHANG, Sue-Hyun; Room No.503, BYC Building 648-1 Yeoksam-dong Gangnam-gu Seoul 135-911, KR
Données relatives à la priorité
10-2003-004264927.06.2003KR
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt coréen (KO)
États désignés
Titre
(EN) TWO-DIMENSIONAL LIGHT-MODULATING NANO/MICRO APERTURE ARRAY AND HIGH-SPEED NANO PATTERN RECORDING SYSTEM UTILIZED WITH THE ARRAY
(FR) ENSEMBLE BIDIMENSIONNEL D'OUVERTURES NANO/MICRO A MODULATION DE LA LUMIERE ET SYSTEME D'ENREGISTREMENT ULTRA-RAPIDE DE NANOMOTIFS UTILISE AVEC LEDIT ENSEMBLE
Abrégé
(EN)
A two-dimensional light-modulating fine aperture array apparatus includes a spatial light-modulating unit for adjusting quantity of incident light by using a plurality of light amount adjusting cells (liquid crystal cells or micromirrors) arrayed in matrix form, a two-dimensional microlens array having microlenses which focus light beams passing through the light quantity adjusting cells, and a highly efficient two-dimensional fine aperture array. The light is emitted through the fine apertures by connecting the two-dimensional light-modulating fine aperture array apparatus with a light source unit. A scanning unit moves in the x and y directions to perform a scanning process on a surface of a recording medium by using the light emitted from the apertures.
(FR)
Cette invention concerne un dispositif bidimensionnel à ensemble de très petites ouvertures à modulation de lumière comprenant une unité spatiale de modulation de la lumière qui assure le dosage de la lumière incidente au moyen d'une pluralité de cellules de dosage de la lumière (cellules à cristaux liquides ou micromiroirs) en forme de matrice, un ensemble bidimensionnel de micro-lentilles focalisant les faisceaux de lumière qui traversent les lentilles doseuses de lumière, et un ensemble bidimensionnel hautement efficace de très petites ouvertures. Pour émettre de la lumière au travers de ces ouvertures, on connecte le dispositif bidimensionnel à ensemble de très petites ouvertures bidimensionnel sur une unité source lumineuse. Un lecteur optique se déplaçant selon des directions x et y balaie une surface du support d'enregistrement au moyen de la lumière émise au travers des ouvertures.
Également publié en tant que
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