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Paramétrages

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1. WO2005001888 - DISPOSITIF ET PROCEDE DE NETTOYAGE D'OBJETS UTILISES AU COURS DE LA FABRICATION DE SEMI-CONDUCTEURS, EN PARTICULIER, DE RECIPIENTS DE TRANSPORT ET DE NETTOYAGE POUR PLAQUETTES

Numéro de publication WO/2005/001888
Date de publication 06.01.2005
N° de la demande internationale PCT/EP2004/003764
Date du dépôt international 08.04.2004
CIB
H01L 21/00 2006.01
HÉLECTRICITÉ
01ÉLÉMENTS ÉLECTRIQUES FONDAMENTAUX
LDISPOSITIFS À SEMI-CONDUCTEURS; DISPOSITIFS ÉLECTRIQUES À L'ÉTAT SOLIDE NON PRÉVUS AILLEURS
21Procédés ou appareils spécialement adaptés à la fabrication ou au traitement de dispositifs à semi-conducteurs ou de dispositifs à l'état solide, ou bien de leurs parties constitutives
CPC
B08B 9/0861
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
08CLEANING
BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
9Cleaning hollow articles by methods or apparatus specially adapted thereto
08Cleaning containers, e.g. tanks
0861Cleaning crates, boxes or the like
B08B 9/0933
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
08CLEANING
BCLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
9Cleaning hollow articles by methods or apparatus specially adapted thereto
08Cleaning containers, e.g. tanks
093by the force of jets or sprays
0933Removing sludge or the like from tank bottoms
Déposants
  • DYNAMIC MICROSYSTEMS SEMICONDUCTOR EQUIPMENT GMBH [DE/DE]; Im Wiesengrund 17 78315 Radolfzell, DE (AllExceptUS)
  • MORAN, Thomas [IE/DE]; DE (UsOnly)
  • REBSTOCK, Lutz [DE/DE]; DE (UsOnly)
Inventeurs
  • MORAN, Thomas; DE
  • REBSTOCK, Lutz; DE
Mandataires
  • WITTE, A. ; Witte, Weller & Partner Postfach 105462 70047 Stuttgart, DE
Données relatives à la priorité
103 17 275.011.04.2003DE
103 47 464.102.10.2003DE
Langue de publication allemand (DE)
Langue de dépôt allemand (DE)
États désignés
Titre
(DE) VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUM REINIGEN VON BEI DER HERSTELLUNG VON HALBLEITERN VERWENDETEN GEGENSTÄNDEN, INSBESONDERE VON TRANSPORT- UND REINIGUNGSBEHÄLTERN FÜR WAFER
(EN) DEVICE AND METHOD FOR CLEANING OBJECTS USED TO PRODUCE SEMICONDUCTORS, ESPECIALLY TRANSPORT AND CLEANING CONTAINERS FOR WAFERS
(FR) DISPOSITIF ET PROCEDE DE NETTOYAGE D'OBJETS UTILISES AU COURS DE LA FABRICATION DE SEMI-CONDUCTEURS, EN PARTICULIER, DE RECIPIENTS DE TRANSPORT ET DE NETTOYAGE POUR PLAQUETTES
Abrégé
(DE)
Eine Vorrichtung und ein Verfahren dienen zum Reinigen von bei der Herstellung von Halbleitern verwendeten Gegenständen, insbesondere von Transport- und Reinigungsbehältern für Wafer, Wafern, LCD-Substraten und Fotomasken. Die Gegenstände werden in einer Behandlungskammer (40) mittels einer Flüssigkeit gereinigt und anschliessend getrocknet. In der Behandlungskammer (40) sind Mittel zum Umwälzen eines Gases innerhalb der Behandlungskammer (40) sowie ein Kondensationstrockner (64) für das Gas vorgesehen.
(EN)
The invention relates to a device and a method for cleaning objects used to produce semiconductors, especially transport and cleaning containers for wafers, LCD substrates and photomasks. Said objects are cleaned in a treatment chamber (40) by means of a liquid, and are then dried. Means for circulating a gas inside the treatment chamber (40) and a condensation drier (64) for the gas are provided in the treatment chamber (40).
(FR)
L'invention concerne un dispositif et un procédé servant au nettoyage d'objets utilisés au cours de la fabrication des semi-conducteurs, en particulier, de récipients de transport et de nettoyage pour plaquettes, plaquettes à gravure, substrats LCD et masques de photogravure. Les objets sont nettoyés dans une chambre de traitement (40) au moyen d'un liquide, puis séchés. Il est prévu, dans la chambre de traitement (40), des moyens de recirculation d'un gaz à l'intérieur de cette chambre, ainsi qu'un sécheur par condensation (64) pour le gaz.
Également publié en tant que
US11247622
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