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Paramétrages

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1. WO2005001574 - COMPOSITION DE RESINE A SENSIBILITE AUX RAYONS X ET AUX ELECTRONS ACCRUE

Numéro de publication WO/2005/001574
Date de publication 06.01.2005
N° de la demande internationale PCT/US2004/007004
Date du dépôt international 09.03.2004
CIB
G03C 1/76 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
CMATÉRIAUX PHOTOSENSIBLES POUR LA PHOTOGRAPHIE; PROCÉDÉS PHOTOGRAPHIQUES, p.ex. PROCÉDÉS CINÉMATOGRAPHIQUES, AUX RAYONS X, EN COULEURS OU STÉRÉOPHOTOGRAPHIQUES; PROCÉDÉS AUXILIAIRES EN PHOTOGRAPHIE
1Matériaux photosensibles
76Matériaux photosensibles caractérisés par le support ou les couches auxiliaires
G03F 7/004 2006.01
GPHYSIQUE
03PHOTOGRAPHIE; CINÉMATOGRAPHIE; TECHNIQUES ANALOGUES UTILISANT D'AUTRES ONDES QUE DES ONDES OPTIQUES; ÉLECTROGRAPHIE; HOLOGRAPHIE
FPRODUCTION PAR VOIE PHOTOMÉCANIQUE DE SURFACES TEXTURÉES, p.ex. POUR L'IMPRESSION, POUR LE TRAITEMENT DE DISPOSITIFS SEMI-CONDUCTEURS; MATÉRIAUX À CET EFFET; ORIGINAUX À CET EFFET; APPAREILLAGES SPÉCIALEMENT ADAPTÉS À CET EFFET
7Production par voie photomécanique, p.ex. photolithographique, de surfaces texturées, p.ex. surfaces imprimées; Matériaux à cet effet, p.ex. comportant des photoréserves; Appareillages spécialement adaptés à cet effet
004Matériaux photosensibles
CPC
B82Y 30/00
BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
82NANOTECHNOLOGY
YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
30Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
G03F 7/0047
GPHYSICS
03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR;
7Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
004Photosensitive materials
0047characterised by additives for obtaining a metallic or ceramic pattern, e.g. by firing
Y10S 430/143
YSECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
430Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
143Electron beam
Y10S 430/167
YSECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
430Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
167X-ray
Déposants
  • THE UNITED STATES OF AMERICA, as represented by THE SECRETARY OF THE NAVY [US/US]; Naval Research Laboratory 4555 Overlook Avenue, SW Washington, DC 20375-5325, US (AllExceptUS)
Inventeurs
  • WHITLOCK, Robert, R.; US
  • SNOW, Arthur; US
  • DOZIER, Charles, M.; US
Mandataires
  • KARASEK, John, J.; Naval Research Laboratory 4555 Overlook Avenue, SW Washington, DC 20375-5325, US
Données relatives à la priorité
10/394,24024.03.2003US
Langue de publication anglais (EN)
Langue de dépôt anglais (EN)
États désignés
Titre
(EN) RESIST COMPOSITION WITH ENHANCED X-RAY AND ELECTRON SENSITIVITY
(FR) COMPOSITION DE RESINE A SENSIBILITE AUX RAYONS X ET AUX ELECTRONS ACCRUE
Abrégé
(EN)
A resist composition (10) with enhanced X-ray and electron sensitivity includes a plurality of chemically inert nanoparticles (12) dispersed throughout a base resist material. The nanoparticles have a higher atomic number than the base resist material and each of the nanoparticles is formed by a nanoparticle core (14), e.g., of a noble metal, coated with an organic capping layer or shell (16). The latter renders the core dispersible and chemically compatible with the resist material surrounding the nanoparticle. A method of making a resist composition (10) with enhanced X-ray and electron sensitivity is to provide a resist material and disperse chemically inert nanoparticles (12) throughout the resist. The nanoparticles have a higher atomic number than the resist and a have core/shell structure. A resist composition with enhanced X-ray and electron sensitivity can be made by having a nanoparticle core (14), with a higher atomic number than the resist, that is coated with an organic capping layer (16). The nanoparticle with the core/shell structure is then dispersed throughout the resist material.
(FR)
La présente invention concerne une composition de résine (10) à la sensibilité aux rayons X et aux électrons accrue qui comprend une pluralité de nanoparticules chimiquement inertes (12) dispersées et dans un matériau de résine base. Ces nanoparticules possèdent un nombre atomique plus élevé que celui du matériau de résine base et chacune de ces nanoparticules est formée d'un noyau de nanoparticule (14), par exemple de métal noble, revêtu d'une couche ou d'une coque (16) d'opercule organique. Cette dernière rend le noyau dispersible dans le matériau de résine entourant la nanoparticule et chimiquement compatible avec celui-ci. Un procédé de fabrication de composition de résine (10) à la sensibilité aux rayons X et aux électrons accrue permet d'obtenir un matériau de résine et des nanoparticules chimiquement inertes dispersées (12) dans la résine. Les nanoparticules possèdent un nombre atomique plus élevé que celui de la résine et possèdent une structure de noyau/coque. On peut fabriquer une composition de résine à la sensibilité aux rayons X et aux électrons accrus grâce à la présence d'un noyau de nanoparticule (14) au nombre atomique plus élevé que celui de la résine qui est revêtue avec une couche d'opercule organique (16). Cette nanoparticule avec la structure de noyau/coque est ensuite dispersée dans le matériau de résine.
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